AI加速器DRP-AI來增強RZ/G2L產(chǎn)品降低損耗的Hybrid IGBT
發(fā)布時間:2021/7/9 20:40:36 訪問次數(shù):1053
使用Si襯底生產(chǎn)的功率半導體,它們的器件結(jié)構(gòu)不同。IGBT比其他功率半導體的成本更低,但存在需要續(xù)流二極管才能工作(需要雙芯片結(jié)構(gòu)才能工作)、關(guān)斷損耗較大的課題.
與IGBT相比,SJ-MOSFET無需續(xù)流二極管即可工作(單芯片結(jié)構(gòu)即可工作),而且關(guān)斷損耗較小,但存在難以應(yīng)對大功率的問題。作為一項突破,IGBT的續(xù)流二極管采用SiC SBD 而非傳統(tǒng)的Si-FRD,推出了可以降低損耗的Hybrid IGBT。
開通損耗是在元件ON時產(chǎn)生的損耗,關(guān)斷損耗是在元件OFF時產(chǎn)生的損耗。
制造商: STMicroelectronics
產(chǎn)品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術(shù): SiC
安裝風格: Through Hole
封裝 / 箱體: HiP-247-3
晶體管極性: N-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 650 V
Id-連續(xù)漏極電流: 119 A
Rds On-漏源導通電阻: 24 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 10 V, + 22 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 5 V
Qg-柵極電荷: 157 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 200 C
Pd-功率耗散: 565 W
通道模式: Enhancement
封裝: Tube
晶體管類型: 1 N-Channel
商標: STMicroelectronics
下降時間: 38 ns
產(chǎn)品類型: MOSFET
上升時間: 16 ns
工廠包裝數(shù)量: 600
子類別: MOSFETs
典型關(guān)閉延遲時間: 58 ns
典型接通延遲時間: 26 ns
對于可能需要更復雜AI功能的場景,瑞薩計劃通過其專有的AI加速器DRP-AI來增強RZ/G2L產(chǎn)品群的功能與性能。
瑞薩將持續(xù)推出擁有更好引腳兼容性和軟件可復用性的產(chǎn)品,以減輕客戶在將來向其產(chǎn)品線中添加新產(chǎn)品版本時的開發(fā)負擔。
(素材來源:eccn和ttic.如涉版權(quán)請聯(lián)系刪除。特別感謝)
使用Si襯底生產(chǎn)的功率半導體,它們的器件結(jié)構(gòu)不同。IGBT比其他功率半導體的成本更低,但存在需要續(xù)流二極管才能工作(需要雙芯片結(jié)構(gòu)才能工作)、關(guān)斷損耗較大的課題.
與IGBT相比,SJ-MOSFET無需續(xù)流二極管即可工作(單芯片結(jié)構(gòu)即可工作),而且關(guān)斷損耗較小,但存在難以應(yīng)對大功率的問題。作為一項突破,IGBT的續(xù)流二極管采用SiC SBD 而非傳統(tǒng)的Si-FRD,推出了可以降低損耗的Hybrid IGBT。
開通損耗是在元件ON時產(chǎn)生的損耗,關(guān)斷損耗是在元件OFF時產(chǎn)生的損耗。
制造商: STMicroelectronics
產(chǎn)品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術(shù): SiC
安裝風格: Through Hole
封裝 / 箱體: HiP-247-3
晶體管極性: N-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 650 V
Id-連續(xù)漏極電流: 119 A
Rds On-漏源導通電阻: 24 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 10 V, + 22 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 5 V
Qg-柵極電荷: 157 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 200 C
Pd-功率耗散: 565 W
通道模式: Enhancement
封裝: Tube
晶體管類型: 1 N-Channel
商標: STMicroelectronics
下降時間: 38 ns
產(chǎn)品類型: MOSFET
上升時間: 16 ns
工廠包裝數(shù)量: 600
子類別: MOSFETs
典型關(guān)閉延遲時間: 58 ns
典型接通延遲時間: 26 ns
對于可能需要更復雜AI功能的場景,瑞薩計劃通過其專有的AI加速器DRP-AI來增強RZ/G2L產(chǎn)品群的功能與性能。
瑞薩將持續(xù)推出擁有更好引腳兼容性和軟件可復用性的產(chǎn)品,以減輕客戶在將來向其產(chǎn)品線中添加新產(chǎn)品版本時的開發(fā)負擔。
(素材來源:eccn和ttic.如涉版權(quán)請聯(lián)系刪除。特別感謝)
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