圖顯示了一種簡單分步重復(fù)光刻系統(tǒng)。掩模版放在聚焦透鏡和投影系統(tǒng)之間，掩模圖像是被縮小了5～10倍投影到襯底晶片上的。這種光學(xué)系統(tǒng)有很多優(yōu)點(diǎn)：第一，可以利用大得多的特征尺寸繪制掩模圖形，例如在制作了特征尺寸為0.1 μm的圖形，可以在掩模上用1μm的線寬，相對來說容易很多；其次，由于縮小作用，一次曝光可以只用到晶片上的一小部分。步進(jìn)光刻機(jī)采用的是投影掩模版，上面包含了一個(gè)曝光場內(nèi)對應(yīng)一個(gè)或多個(gè)芯片的圖形。為了曝光整個(gè)晶片，每次曝光以后都需要一定晶片來使下一個(gè)芯片區(qū)域移動到投影照射區(qū)域，因此稱為分步重復(fù)光刻。

　　圖 一個(gè)簡單的步進(jìn)光刻系統(tǒng)示意圖

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