晶體生長(zhǎng)從籽晶開始
發(fā)布時(shí)間:2015/10/24 19:10:35 訪問次數(shù):1528
融物的薄膜附著到籽晶上然后冷卻。在冷卻MC9S12DG256BMPV過程中,在熔化的半導(dǎo)體材料的原子定向到籽晶一樣的晶體結(jié)構(gòu),、實(shí)際結(jié)果是籽晶的定向在生長(zhǎng)的晶體中傳播。在熔融物中的摻雜原子進(jìn)人生長(zhǎng)的晶體中,生成N型或P型晶體。
圖3. 10晶體生長(zhǎng)從籽晶開始
為了實(shí)現(xiàn)均勻摻雜、完美晶體和直徑控制,籽晶和坩堝(伴隨著拉速)在整個(gè)晶體生長(zhǎng)過程中以相反的方向旋轉(zhuǎn)。工藝控制需要一套復(fù)雜的反饋系統(tǒng),綜合轉(zhuǎn)速、拉速及熔融物溫度參數(shù)。
拉晶分為3個(gè)段,開始放肩形成一薄層頭部,接著是等徑生長(zhǎng),最后是收尾。直拉法能夠生成幾英尺長(zhǎng)和直徑達(dá)到450 mm(18英寸)的晶體。450 mm晶圓的晶體質(zhì)量將會(huì)達(dá)到800 kg,需要花費(fèi)3天時(shí)間來生長(zhǎng)。
質(zhì)量更大的晶體可能導(dǎo)致碎裂成小直徑的籽晶(約4 mm)|4、,一個(gè)解決方案是用被稱為縮頸( dash necking)的工藝開始生長(zhǎng)。在開始生長(zhǎng)階段,生長(zhǎng)加粗部分。它為更大的晶體提供了機(jī)械強(qiáng)度支撐(見圖3. 11)。
融物的薄膜附著到籽晶上然后冷卻。在冷卻MC9S12DG256BMPV過程中,在熔化的半導(dǎo)體材料的原子定向到籽晶一樣的晶體結(jié)構(gòu),、實(shí)際結(jié)果是籽晶的定向在生長(zhǎng)的晶體中傳播。在熔融物中的摻雜原子進(jìn)人生長(zhǎng)的晶體中,生成N型或P型晶體。
圖3. 10晶體生長(zhǎng)從籽晶開始
為了實(shí)現(xiàn)均勻摻雜、完美晶體和直徑控制,籽晶和坩堝(伴隨著拉速)在整個(gè)晶體生長(zhǎng)過程中以相反的方向旋轉(zhuǎn)。工藝控制需要一套復(fù)雜的反饋系統(tǒng),綜合轉(zhuǎn)速、拉速及熔融物溫度參數(shù)。
拉晶分為3個(gè)段,開始放肩形成一薄層頭部,接著是等徑生長(zhǎng),最后是收尾。直拉法能夠生成幾英尺長(zhǎng)和直徑達(dá)到450 mm(18英寸)的晶體。450 mm晶圓的晶體質(zhì)量將會(huì)達(dá)到800 kg,需要花費(fèi)3天時(shí)間來生長(zhǎng)。
質(zhì)量更大的晶體可能導(dǎo)致碎裂成小直徑的籽晶(約4 mm)|4、,一個(gè)解決方案是用被稱為縮頸( dash necking)的工藝開始生長(zhǎng)。在開始生長(zhǎng)階段,生長(zhǎng)加粗部分。它為更大的晶體提供了機(jī)械強(qiáng)度支撐(見圖3. 11)。
上一篇:晶體生長(zhǎng)
上一篇:液體掩蓋直拉法
熱門點(diǎn)擊
- 密度、相對(duì)密度和蒸氣密度
- 手動(dòng)/自動(dòng)工作方式切換梯形圖
- 空操作指令NOP
- 修改計(jì)數(shù)器設(shè)定的預(yù)置值
- 十六進(jìn)制數(shù)的左/右移位指令:F105 (BS
- 降低接觸電阻措施
- 步進(jìn)控制指令SSTP、NSTP、NSTL、C
- 塊傳輸指令:F10 (BKMV)、F11 (
- SPD的安裝圖
- 解釋了空穴是怎樣導(dǎo)電的
推薦技術(shù)資料
- 聲道前級(jí)設(shè)計(jì)特點(diǎn)
- 與通常的Hi-Fi前級(jí)不同,EP9307-CRZ這臺(tái)分... [詳細(xì)]
- 1.6T OSFP Coher
- 5G-A 調(diào)制解調(diào)器解決方案
- 新款5G分離式Modem芯片應(yīng)
- 高分子混合鋁電解電容應(yīng)用詳解
- HEV/PHV/EV 基礎(chǔ)控制(電池、逆變器
- 離散半導(dǎo)體元件(晶體管、二極管)
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動(dòng)IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計(jì)
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究