對(duì)焦深度(Depth of Focus,DC)F),指的是在線寬允許的變化范圍內(nèi),焦距的最大可變化范圍。 TA7521M如圖7.13所示,光刻膠隨著焦距的變化不僅會(huì)發(fā)生線寬的變化,還會(huì)發(fā)生形貌的變化。一般來(lái)講,對(duì)透明度比較高的光刻膠,如193nm的光刻膠和分辨率較高的248nm光刻膠,當(dāng)光刻機(jī)的焦平面處于負(fù)值時(shí),焦平面靠近光刻膠頂部位置;當(dāng)高寬比大于2.5~3時(shí),由于光刻膠底部線寬較大,甚至于出現(xiàn)“內(nèi)切”(undercut),容易發(fā)生機(jī)械不穩(wěn)定而傾倒。

   當(dāng)焦平面處于正值時(shí),由于光刻膠溝槽頂部的線 線貿(mào)CDynm 寬較大,頂部的方角會(huì)變得圓滑(top rounding)。 12 這種“頂部圓滑”有可能會(huì)被轉(zhuǎn)移到刻蝕后的材 l 料形貌中去,所以“內(nèi)切”和“圓滑”都需要避免。如果將圖7.13的線寬數(shù)據(jù)作圖,會(huì)得到一張?jiān)诓煌毓饽芰肯戮�寬隨焦距的變化曲線族,如圖7.17所示。