高敏感度的磁電阻材料制造的存儲(chǔ)器
發(fā)布時(shí)間:2020/8/13 21:36:59 訪問(wèn)次數(shù):2065
傳感器BF82160使用業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的65nm加工工藝,具有低功耗、高集成、防靜電及高性價(jià)比;同時(shí)采用其獨(dú)有的FD(Finger Detection)喚醒技術(shù),相較于傳統(tǒng)的TP(Touch Point)喚醒模式,可實(shí)現(xiàn)更低功耗生物識(shí)別應(yīng)用以及有效規(guī)避指紋鎖在低溫環(huán)境下的失效性。
中印云端在模組中運(yùn)用的貝特萊與PB(Precise Biometrics)合作的算法符合金融車規(guī)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)。該算法支持以FAR(False Acceptance Rate)認(rèn)假率小于百萬(wàn)分之一,F(xiàn)RR(False Rejection Rate)拒真率小于1%的高精度有效識(shí)別硅膠、指模等假指紋情況;同時(shí)可通過(guò)采集活體和假指紋圖像來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)庫(kù),進(jìn)行算法訓(xùn)練,從而改進(jìn)指紋匹配能力,提升識(shí)別速度。
隨著智能社會(huì)加速實(shí)現(xiàn),智能生物識(shí)別及進(jìn)入系統(tǒng)也在日常工作、生活場(chǎng)景中得到快速普及。我們很高興與貝特萊、中印云端達(dá)成戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系,充分發(fā)揮各自在產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、營(yíng)銷方面的優(yōu)勢(shì),快速推出適合中國(guó)及全球市場(chǎng)需求的解決方案,共同拓展市場(chǎng)。我們將致力于提供安全、可靠、便捷、靈活的指紋識(shí)別模組解決方案。
在人工智能(AI)、5G等推動(dòng)下,以MRAM(磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)、鐵電隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 (FRAM)、相變隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(PRAM),以及可變電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RRAM)為代表的新興存儲(chǔ)技術(shù)逐漸成為市場(chǎng)熱點(diǎn)。這些新技術(shù)吸引各大晶圓廠不斷投入,最具代表性的廠商包括臺(tái)積電、英特爾、三星和格芯(Globalfoundries)。
半導(dǎo)體制造技術(shù)持續(xù)朝更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn),傳統(tǒng)的DRAM和NAND Flash面臨越來(lái)越嚴(yán)峻的微縮挑戰(zhàn),DRAM 已接近微縮極限,而NAND Flash則朝3D方向轉(zhuǎn)型。
傳統(tǒng)存儲(chǔ)技術(shù)在高速運(yùn)算上也遭遇阻礙,處理器與存儲(chǔ)器之間的“墻”成為了提升運(yùn)算速度和效率的最大障礙。特別是AI的發(fā)展,數(shù)據(jù)需求量暴增,“墻”的負(fù)面效應(yīng)愈加突出,越來(lái)越多的半導(dǎo)體廠商正在加大對(duì)新興存儲(chǔ)技術(shù)的研發(fā)和投資力度,尋求成本更佳、速度更快、效能更好的存儲(chǔ)方案。
最受期待的就是MRAM,各大廠商在它上面投入的力度也最大。MRAM屬于非易失性存儲(chǔ)技術(shù),是利用具有高敏感度的磁電阻材料制造的存儲(chǔ)器,斷電時(shí),MRAM儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)不會(huì)丟失,且耗能較低,讀寫速度快,可媲美SRAM,比Flash速度快百倍,在存儲(chǔ)容量方面能替代DRAM,且數(shù)據(jù)保存時(shí)間長(zhǎng),適合高性能應(yīng)用。
MRAM的基本結(jié)構(gòu)是磁性隧道結(jié),研發(fā)難度高,目前主要分為兩大類:傳統(tǒng)MRAM和STT-MRAM,前者以磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng),后者則采用自旋極化電流驅(qū)動(dòng)。
臺(tái)積電已經(jīng)完成22nm嵌入式STT-MRAM技術(shù)驗(yàn)證,進(jìn)入量產(chǎn)階段。在此基礎(chǔ)上,該公司還在推進(jìn)16 nm 制程的STT-MRAM研發(fā)工作。
除了MRAM,臺(tái)積電也在進(jìn)行著ReRAM的研發(fā)工作,并發(fā)表過(guò)多篇基于金屬氧化物結(jié)構(gòu)的ReRAM論文。
由于新興存儲(chǔ)技術(shù)將需要整合邏輯制程技術(shù),因此現(xiàn)有存儲(chǔ)器廠商要卡位進(jìn)入新市場(chǎng),門檻相對(duì)較高,而臺(tái)積電在這方面具有先天優(yōu)勢(shì),因?yàn)樵摴緭碛泻軓?qiáng)的邏輯制程生產(chǎn)能力,因此,臺(tái)積電跨入新興存儲(chǔ)市場(chǎng)會(huì)具有競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
臺(tái)灣地區(qū)工研院在新興存儲(chǔ)技術(shù)領(lǐng)域研發(fā)投入已超過(guò)10年,通過(guò)元件創(chuàng)新、材料突破、電路優(yōu)化等方式,開發(fā)出了更快、更耐久、更穩(wěn)定、更低功耗的新一代存儲(chǔ)技術(shù),目前,正在與臺(tái)積電在這方面進(jìn)行合作。未來(lái),臺(tái)積電在新興存儲(chǔ)器發(fā)展方面,工研院將會(huì)有所貢獻(xiàn),但具體內(nèi)容并未透露。
三星在MRAM研發(fā)方面算是起步較早的廠商,開始了這項(xiàng)工作,開始進(jìn)行STT-MRAM的研發(fā),之后不斷演進(jìn),生產(chǎn)出了8Mb的eMRAM。
三星Foundry業(yè)務(wù)部門的發(fā)展路徑主要分為兩條,從28nm節(jié)點(diǎn)開始,一條是按照摩爾定律繼續(xù)向下發(fā)展,不斷提升FinFET的工藝節(jié)點(diǎn),從14nm到目前的7nm,進(jìn)而轉(zhuǎn)向下一步的5nm。
另一條線路就是FD-SOI工藝,該公司還利用其在存儲(chǔ)器制造方面的技術(shù)和規(guī)模優(yōu)勢(shì),著力打造eMRAM,以滿足未來(lái)市場(chǎng)的需求。這方面主要采用28nm制程。
(素材來(lái)源:21ic和ttic.如涉版權(quán)請(qǐng)聯(lián)系刪除。特別感謝)
傳感器BF82160使用業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的65nm加工工藝,具有低功耗、高集成、防靜電及高性價(jià)比;同時(shí)采用其獨(dú)有的FD(Finger Detection)喚醒技術(shù),相較于傳統(tǒng)的TP(Touch Point)喚醒模式,可實(shí)現(xiàn)更低功耗生物識(shí)別應(yīng)用以及有效規(guī)避指紋鎖在低溫環(huán)境下的失效性。
中印云端在模組中運(yùn)用的貝特萊與PB(Precise Biometrics)合作的算法符合金融車規(guī)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)。該算法支持以FAR(False Acceptance Rate)認(rèn)假率小于百萬(wàn)分之一,F(xiàn)RR(False Rejection Rate)拒真率小于1%的高精度有效識(shí)別硅膠、指模等假指紋情況;同時(shí)可通過(guò)采集活體和假指紋圖像來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)庫(kù),進(jìn)行算法訓(xùn)練,從而改進(jìn)指紋匹配能力,提升識(shí)別速度。
隨著智能社會(huì)加速實(shí)現(xiàn),智能生物識(shí)別及進(jìn)入系統(tǒng)也在日常工作、生活場(chǎng)景中得到快速普及。我們很高興與貝特萊、中印云端達(dá)成戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系,充分發(fā)揮各自在產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、營(yíng)銷方面的優(yōu)勢(shì),快速推出適合中國(guó)及全球市場(chǎng)需求的解決方案,共同拓展市場(chǎng)。我們將致力于提供安全、可靠、便捷、靈活的指紋識(shí)別模組解決方案。
在人工智能(AI)、5G等推動(dòng)下,以MRAM(磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)、鐵電隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 (FRAM)、相變隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(PRAM),以及可變電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RRAM)為代表的新興存儲(chǔ)技術(shù)逐漸成為市場(chǎng)熱點(diǎn)。這些新技術(shù)吸引各大晶圓廠不斷投入,最具代表性的廠商包括臺(tái)積電、英特爾、三星和格芯(Globalfoundries)。
半導(dǎo)體制造技術(shù)持續(xù)朝更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn),傳統(tǒng)的DRAM和NAND Flash面臨越來(lái)越嚴(yán)峻的微縮挑戰(zhàn),DRAM 已接近微縮極限,而NAND Flash則朝3D方向轉(zhuǎn)型。
傳統(tǒng)存儲(chǔ)技術(shù)在高速運(yùn)算上也遭遇阻礙,處理器與存儲(chǔ)器之間的“墻”成為了提升運(yùn)算速度和效率的最大障礙。特別是AI的發(fā)展,數(shù)據(jù)需求量暴增,“墻”的負(fù)面效應(yīng)愈加突出,越來(lái)越多的半導(dǎo)體廠商正在加大對(duì)新興存儲(chǔ)技術(shù)的研發(fā)和投資力度,尋求成本更佳、速度更快、效能更好的存儲(chǔ)方案。
最受期待的就是MRAM,各大廠商在它上面投入的力度也最大。MRAM屬于非易失性存儲(chǔ)技術(shù),是利用具有高敏感度的磁電阻材料制造的存儲(chǔ)器,斷電時(shí),MRAM儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)不會(huì)丟失,且耗能較低,讀寫速度快,可媲美SRAM,比Flash速度快百倍,在存儲(chǔ)容量方面能替代DRAM,且數(shù)據(jù)保存時(shí)間長(zhǎng),適合高性能應(yīng)用。
MRAM的基本結(jié)構(gòu)是磁性隧道結(jié),研發(fā)難度高,目前主要分為兩大類:傳統(tǒng)MRAM和STT-MRAM,前者以磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng),后者則采用自旋極化電流驅(qū)動(dòng)。
臺(tái)積電已經(jīng)完成22nm嵌入式STT-MRAM技術(shù)驗(yàn)證,進(jìn)入量產(chǎn)階段。在此基礎(chǔ)上,該公司還在推進(jìn)16 nm 制程的STT-MRAM研發(fā)工作。
除了MRAM,臺(tái)積電也在進(jìn)行著ReRAM的研發(fā)工作,并發(fā)表過(guò)多篇基于金屬氧化物結(jié)構(gòu)的ReRAM論文。
由于新興存儲(chǔ)技術(shù)將需要整合邏輯制程技術(shù),因此現(xiàn)有存儲(chǔ)器廠商要卡位進(jìn)入新市場(chǎng),門檻相對(duì)較高,而臺(tái)積電在這方面具有先天優(yōu)勢(shì),因?yàn)樵摴緭碛泻軓?qiáng)的邏輯制程生產(chǎn)能力,因此,臺(tái)積電跨入新興存儲(chǔ)市場(chǎng)會(huì)具有競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
臺(tái)灣地區(qū)工研院在新興存儲(chǔ)技術(shù)領(lǐng)域研發(fā)投入已超過(guò)10年,通過(guò)元件創(chuàng)新、材料突破、電路優(yōu)化等方式,開發(fā)出了更快、更耐久、更穩(wěn)定、更低功耗的新一代存儲(chǔ)技術(shù),目前,正在與臺(tái)積電在這方面進(jìn)行合作。未來(lái),臺(tái)積電在新興存儲(chǔ)器發(fā)展方面,工研院將會(huì)有所貢獻(xiàn),但具體內(nèi)容并未透露。
三星在MRAM研發(fā)方面算是起步較早的廠商,開始了這項(xiàng)工作,開始進(jìn)行STT-MRAM的研發(fā),之后不斷演進(jìn),生產(chǎn)出了8Mb的eMRAM。
三星Foundry業(yè)務(wù)部門的發(fā)展路徑主要分為兩條,從28nm節(jié)點(diǎn)開始,一條是按照摩爾定律繼續(xù)向下發(fā)展,不斷提升FinFET的工藝節(jié)點(diǎn),從14nm到目前的7nm,進(jìn)而轉(zhuǎn)向下一步的5nm。
另一條線路就是FD-SOI工藝,該公司還利用其在存儲(chǔ)器制造方面的技術(shù)和規(guī)模優(yōu)勢(shì),著力打造eMRAM,以滿足未來(lái)市場(chǎng)的需求。這方面主要采用28nm制程。
(素材來(lái)源:21ic和ttic.如涉版權(quán)請(qǐng)聯(lián)系刪除。特別感謝)
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