帶分立式續(xù)流二極管的異步轉(zhuǎn)換器仍然可以實(shí)現(xiàn)低輻射。如果在設(shè)計(jì)時(shí)特別注意熱回路布局和dV/dt開關(guān)邊緣速率，那么有可能使用異步轉(zhuǎn)換器實(shí)現(xiàn)低EMI開關(guān)應(yīng)用。

在展頻(SSFM)中集成降低輻射的額外措施是必要的。單芯片開關(guān)穩(wěn)壓器，例如LT3950 60V、1.5A異步LED驅(qū)動(dòng)器和LT8334 40V、5A異步升壓轉(zhuǎn)換器，每個(gè)都在器件中集成了單個(gè)低端電源開關(guān)，但它們依賴外部續(xù)流二極管.

使用鉻酸鋅底層涂料有幾點(diǎn)要注意,金屬表面要進(jìn)行徹底的清潔;鉻酸鋅涂料要使用專用的稀釋劑進(jìn)行稀釋;另外,鉻酸鋅涂料有毒,噴涂時(shí)要注意安全保護(hù)。鉻酸鋅底層涂料有黃綠色和深綠色兩種,新的鉻酸鋅涂料是深綠色的,比黃綠色的鉻酸鋅涂料的性能更好。

環(huán)氧樹脂底層涂料,如果使用聚氨酯表面涂層,就必須使用環(huán)氧樹脂做底層涂料。

環(huán)氧樹脂是一種兩組分進(jìn)行配制的涂料,它在金屬和表面涂層之間提供很好的粘著基礎(chǔ),并能起到很好的防腐保護(hù)作用。在鎂合金、鋁合金和鋼構(gòu)件上都可以用環(huán)氧樹脂做底層涂料。

EUV制程采用波長為10-14nm的極紫外光作為光源的光刻，相較于將蝕刻液噴灑在半導(dǎo)體表面，利用蝕刻液與半導(dǎo)體基底化學(xué)反應(yīng)的DUV，蝕刻的各向異性明顯改善，對(duì)于精確度要求較高的集成電路，EUV使電路分辨率和良率得到極大提升。

簡單而言，利用EUV設(shè)備生產(chǎn)DRAM，將極大的提高產(chǎn)能、良率，并降低成本。這也使得EUV的爭(zhēng)奪愈加白熱化,基于EUV技術(shù)對(duì)DRAM技術(shù)節(jié)點(diǎn)的好處，三星、SK海力士和美光這三大DRAM廠商已先后進(jìn)入了EUV DRAM市場(chǎng)。