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蒸發(fā)溫度并不高所以長期以來鋁膜都是使用電阻加熱方法淀積的

發(fā)布時間:2023/10/6 15:42:02 訪問次數(shù):78

“電”是一種環(huán)?稍偕男履茉,給我們的生活帶來諸多便利,被廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)、家庭家居等4不斷推動我們的生活質(zhì)量得到提高和改善。

但是,我們在看到電能帶來好處的同時,也不得不承認(rèn),“電”危險的另一面。因為對電源利用和電能轉(zhuǎn)化裝置的不合理利用,以及電路設(shè)計不合理,長時間缺乏維修或工作人員對電子元件的操作不當(dāng)?shù)仍?每年造成的財務(wù)損失和人身傷亡事故屢屢發(fā)生。

電流是如何傷害入體的從傷害形式方面來看,電流對人體的主要傷害形式可分為電擊和電傷兩個類型。


常壓下,鋁熔點為660.4℃,沸點為2467℃,在1250℃時的平衡蒸氣壓為1,333Pa,所以1250℃是工程上規(guī)定的蒸發(fā)溫度,這一溫度并不高,所以長期以來鋁膜都是使用電阻加熱方法淀積的。

鋁源在蒸發(fā)過程中是先熔化,再汽化揮發(fā)。熔融鋁能浸潤鎢絲,因此可以采用鎢絲作為鍍鋁的電阻加熱器。常用的鎢絲加熱器的形狀和鋁絲源的擺放方式。

電阻真空鍍鋁工藝方法簡單,容易操作,但是鍍膜純凈度不高,襯底附著性和臺階覆蓋特性也較差,目前只是在對鋁膜質(zhì)量要求不高的場合使用。

濺射工藝和蒸鍍工藝一樣,也多在制備微電子器件內(nèi)電極或集成電路互連系統(tǒng)的金屬、合金及硅化物薄膜時使用。因此,要求濺射工藝制備的薄膜保形覆蓋特性、附著性、致密性要好。對于金屬薄膜最好能夠控制其多晶態(tài)晶粒結(jié)構(gòu);又寸于合金或硅化物薄膜最好能夠準(zhǔn)確控制其組成成分。

因此,即使是在常溫襯底上濺射的薄膜也有較好的臺階覆蓋特性。

濺射薄膜附著性好于蒸鍍薄膜。由于濺射原子能量遠高于蒸發(fā)原子能量,淀積成膜過程中.通過能量轉(zhuǎn)換產(chǎn)生的熱能較高,從而增強了濺射原子與襯底的附著力。

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“電”是一種環(huán)保可再生的新能源,給我們的生活帶來諸多便利,被廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)、家庭家居等4不斷推動我們的生活質(zhì)量得到提高和改善。

但是,我們在看到電能帶來好處的同時,也不得不承認(rèn),“電”危險的另一面。因為對電源利用和電能轉(zhuǎn)化裝置的不合理利用,以及電路設(shè)計不合理,長時間缺乏維修或工作人員對電子元件的操作不當(dāng)?shù)仍?每年造成的財務(wù)損失和人身傷亡事故屢屢發(fā)生。

電流是如何傷害入體的從傷害形式方面來看,電流對人體的主要傷害形式可分為電擊和電傷兩個類型。


常壓下,鋁熔點為660.4℃,沸點為2467℃,在1250℃時的平衡蒸氣壓為1,333Pa,所以1250℃是工程上規(guī)定的蒸發(fā)溫度,這一溫度并不高,所以長期以來鋁膜都是使用電阻加熱方法淀積的。

鋁源在蒸發(fā)過程中是先熔化,再汽化揮發(fā)。熔融鋁能浸潤鎢絲,因此可以采用鎢絲作為鍍鋁的電阻加熱器。常用的鎢絲加熱器的形狀和鋁絲源的擺放方式。

電阻真空鍍鋁工藝方法簡單,容易操作,但是鍍膜純凈度不高,襯底附著性和臺階覆蓋特性也較差,目前只是在對鋁膜質(zhì)量要求不高的場合使用。

濺射工藝和蒸鍍工藝一樣,也多在制備微電子器件內(nèi)電極或集成電路互連系統(tǒng)的金屬、合金及硅化物薄膜時使用。因此,要求濺射工藝制備的薄膜保形覆蓋特性、附著性、致密性要好。對于金屬薄膜最好能夠控制其多晶態(tài)晶粒結(jié)構(gòu);又寸于合金或硅化物薄膜最好能夠準(zhǔn)確控制其組成成分。

因此,即使是在常溫襯底上濺射的薄膜也有較好的臺階覆蓋特性。

濺射薄膜附著性好于蒸鍍薄膜。由于濺射原子能量遠高于蒸發(fā)原子能量,淀積成膜過程中.通過能量轉(zhuǎn)換產(chǎn)生的熱能較高,從而增強了濺射原子與襯底的附著力。

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