3STR1630
發(fā)布時(shí)間:2011/3/11 9:25:54 訪問(wèn)次數(shù):840
3STR1630是一款采用最新低壓平面工藝制造的NPN型晶體管。意法半導(dǎo)體在平面技術(shù)工藝中加入一種雙金屬層制程,可將單元密度提高近一倍,而無(wú)需使用復(fù)雜的蝕刻設(shè)備。
除了將同一芯片上的輸出電流提高50%,雙金屬層制程還可為晶體管實(shí)現(xiàn)高達(dá)100V的Vceo額定電壓,高達(dá)300kHz的工作開(kāi)關(guān)頻率及有效降低40%的Vce(sat)電壓。
作為新系列產(chǎn)品的首款產(chǎn)品,3STR1630擁有最低30V的BVCEO電壓,提供在28V截止電壓與最小Vce(sat)電壓之間的最佳平衡,在hFE值等于50時(shí),等效通態(tài)電阻僅為100mΩ。此外,新產(chǎn)品盡管采用緊湊型SOT-23封裝,但連續(xù)輸出電流仍高達(dá)6A。
3STR1630現(xiàn)已量產(chǎn)。
意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱ST;紐約證券交易所代碼STM),推出全新高性能雙極功率晶體管系列的首款產(chǎn)品。新產(chǎn)品集多種卓越性能于一身,包括高輸出電流、高集電極-發(fā)射極截止電壓及超低集電極-發(fā)射極飽和電壓,是LED驅(qū)動(dòng)、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器和繼電器驅(qū)動(dòng)電路和直流-直流轉(zhuǎn)換器的最佳選擇。
3STR1630是一款采用最新低壓平面工藝制造的NPN型晶體管。意法半導(dǎo)體在平面技術(shù)工藝中加入一種雙金屬層制程,可將單元密度提高近一倍,而無(wú)需使用復(fù)雜的蝕刻設(shè)備。
除了將同一芯片上的輸出電流提高50%,雙金屬層制程還可為晶體管實(shí)現(xiàn)高達(dá)100V的Vceo額定電壓,高達(dá)300kHz的工作開(kāi)關(guān)頻率及有效降低40%的Vce(sat)電壓。
作為新系列產(chǎn)品的首款產(chǎn)品,3STR1630擁有最低30V的BVCEO電壓,提供在28V截止電壓與最小Vce(sat)電壓之間的最佳平衡,在hFE值等于50時(shí),等效通態(tài)電阻僅為100mΩ。此外,新產(chǎn)品盡管采用緊湊型SOT-23封裝,但連續(xù)輸出電流仍高達(dá)6A。
3STR1630現(xiàn)已量產(chǎn)。
意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱ST;紐約證券交易所代碼STM),推出全新高性能雙極功率晶體管系列的首款產(chǎn)品。新產(chǎn)品集多種卓越性能于一身,包括高輸出電流、高集電極-發(fā)射極截止電壓及超低集電極-發(fā)射極飽和電壓,是LED驅(qū)動(dòng)、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器和繼電器驅(qū)動(dòng)電路和直流-直流轉(zhuǎn)換器的最佳選擇。
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