噴濺成膜
發(fā)布時(shí)間:2013/7/13 21:47:26 訪問次數(shù):729
噴濺成膜這一處理并不是特別精密，膜層電阻的典型分布范圍是±10%N20%�，F(xiàn)在，端帽已裝到瓷棒上，需進(jìn)行電阻值的測(cè)量分選，把瓷棒分成一批批，分別對(duì)應(yīng)不同的阻值范圍。目的是要保證螺旋刻槽（見后面介紹）的一致性，以及保證最終產(chǎn)品的性能。
瓷棒現(xiàn)在已構(gòu)成了電阻，但它的電阻值很小，必須想辦法增大。相應(yīng)的工藝處理是螺旋刻槽，由一個(gè)端帽處開始，到另一個(gè)端帽處結(jié)束，螺旋地在電阻膜上作切割，使得這個(gè)電阻體變長(zhǎng)和變窄。螺旋刻槽的圈數(shù)越多，電阻體就越長(zhǎng)和越窄，最終的阻值就相應(yīng)地越大。因此，AT24C16電阻制造商稱這個(gè)刻槽參數(shù)為增益(gain)，后面我們?cè)僮鹘榻B。
傳統(tǒng)上，螺旋槽是由鉆石刃口的砂輪切割出來(lái)的，切割深淺的精度要求很高。如果切割得過淺，電阻膜層就不能完全斷開。如果切割得過深，就會(huì)割傷瓷棒，并且令到隨后的膜層切割變?cè)�。切割得過淺和過深，都會(huì)給最終的電阻產(chǎn)品帶來(lái)噪聲。
現(xiàn)代的電阻制造技術(shù)，是采用YAg激光束來(lái)完成螺旋刻槽的。激光束刻槽要窄得多，而且也更準(zhǔn)確。但即便如此，若處置不當(dāng)，也可能會(huì)出現(xiàn)問題。如果激光束的能量不足，電阻膜層不能被完全燒斷，就會(huì)出現(xiàn)刻槽處的相連現(xiàn)象。如果能量道強(qiáng)，膜層的刻槽邊緣就會(huì)變得參差不齊。以上兩種情況，都會(huì)帶來(lái)噪聲。
提高刻槽增益后，膜層電阻體就變窄，導(dǎo)致刻槽邊緣缺陷相應(yīng)地增多。這種效應(yīng)，可通過制造商所公布的噪聲性能——值大于lOOkQ的薄膜電阻的過量噪聲(excess noise) -反映出來(lái)。其帶來(lái)的影響，對(duì)小功率電阻來(lái)說特別明顯，因?yàn)檫@些電阻尺寸小，需要更高的刻槽增益。
瓷棒現(xiàn)在已構(gòu)成了電阻，但它的電阻值很小，必須想辦法增大。相應(yīng)的工藝處理是螺旋刻槽，由一個(gè)端帽處開始，到另一個(gè)端帽處結(jié)束，螺旋地在電阻膜上作切割，使得這個(gè)電阻體變長(zhǎng)和變窄。螺旋刻槽的圈數(shù)越多，電阻體就越長(zhǎng)和越窄，最終的阻值就相應(yīng)地越大。因此，AT24C16電阻制造商稱這個(gè)刻槽參數(shù)為增益(gain)，后面我們?cè)僮鹘榻B。
傳統(tǒng)上，螺旋槽是由鉆石刃口的砂輪切割出來(lái)的，切割深淺的精度要求很高。如果切割得過淺，電阻膜層就不能完全斷開。如果切割得過深，就會(huì)割傷瓷棒，并且令到隨后的膜層切割變?cè)�。切割得過淺和過深，都會(huì)給最終的電阻產(chǎn)品帶來(lái)噪聲。
現(xiàn)代的電阻制造技術(shù)，是采用YAg激光束來(lái)完成螺旋刻槽的。激光束刻槽要窄得多，而且也更準(zhǔn)確。但即便如此，若處置不當(dāng)，也可能會(huì)出現(xiàn)問題。如果激光束的能量不足，電阻膜層不能被完全燒斷，就會(huì)出現(xiàn)刻槽處的相連現(xiàn)象。如果能量道強(qiáng)，膜層的刻槽邊緣就會(huì)變得參差不齊。以上兩種情況，都會(huì)帶來(lái)噪聲。
提高刻槽增益后，膜層電阻體就變窄，導(dǎo)致刻槽邊緣缺陷相應(yīng)地增多。這種效應(yīng)，可通過制造商所公布的噪聲性能——值大于lOOkQ的薄膜電阻的過量噪聲(excess noise) -反映出來(lái)。其帶來(lái)的影響，對(duì)小功率電阻來(lái)說特別明顯，因?yàn)檫@些電阻尺寸小，需要更高的刻槽增益。
噴濺成膜這一處理并不是特別精密，膜層電阻的典型分布范圍是±10%N20%。現(xiàn)在，端帽已裝到瓷棒上，需進(jìn)行電阻值的測(cè)量分選，把瓷棒分成一批批，分別對(duì)應(yīng)不同的阻值范圍。目的是要保證螺旋刻槽（見后面介紹）的一致性，以及保證最終產(chǎn)品的性能。
瓷棒現(xiàn)在已構(gòu)成了電阻，但它的電阻值很小，必須想辦法增大。相應(yīng)的工藝處理是螺旋刻槽，由一個(gè)端帽處開始，到另一個(gè)端帽處結(jié)束，螺旋地在電阻膜上作切割，使得這個(gè)電阻體變長(zhǎng)和變窄。螺旋刻槽的圈數(shù)越多，電阻體就越長(zhǎng)和越窄，最終的阻值就相應(yīng)地越大。因此，AT24C16電阻制造商稱這個(gè)刻槽參數(shù)為增益(gain)，后面我們?cè)僮鹘榻B。
傳統(tǒng)上，螺旋槽是由鉆石刃口的砂輪切割出來(lái)的，切割深淺的精度要求很高。如果切割得過淺，電阻膜層就不能完全斷開。如果切割得過深，就會(huì)割傷瓷棒，并且令到隨后的膜層切割變?cè)�。切割得過淺和過深，都會(huì)給最終的電阻產(chǎn)品帶來(lái)噪聲。
現(xiàn)代的電阻制造技術(shù)，是采用YAg激光束來(lái)完成螺旋刻槽的。激光束刻槽要窄得多，而且也更準(zhǔn)確。但即便如此，若處置不當(dāng)，也可能會(huì)出現(xiàn)問題。如果激光束的能量不足，電阻膜層不能被完全燒斷，就會(huì)出現(xiàn)刻槽處的相連現(xiàn)象。如果能量道強(qiáng)，膜層的刻槽邊緣就會(huì)變得參差不齊。以上兩種情況，都會(huì)帶來(lái)噪聲。
提高刻槽增益后，膜層電阻體就變窄，導(dǎo)致刻槽邊緣缺陷相應(yīng)地增多。這種效應(yīng)，可通過制造商所公布的噪聲性能——值大于lOOkQ的薄膜電阻的過量噪聲(excess noise) -反映出來(lái)。其帶來(lái)的影響，對(duì)小功率電阻來(lái)說特別明顯，因?yàn)檫@些電阻尺寸小，需要更高的刻槽增益。
瓷棒現(xiàn)在已構(gòu)成了電阻，但它的電阻值很小，必須想辦法增大。相應(yīng)的工藝處理是螺旋刻槽，由一個(gè)端帽處開始，到另一個(gè)端帽處結(jié)束，螺旋地在電阻膜上作切割，使得這個(gè)電阻體變長(zhǎng)和變窄。螺旋刻槽的圈數(shù)越多，電阻體就越長(zhǎng)和越窄，最終的阻值就相應(yīng)地越大。因此，AT24C16電阻制造商稱這個(gè)刻槽參數(shù)為增益(gain)，后面我們?cè)僮鹘榻B。
傳統(tǒng)上，螺旋槽是由鉆石刃口的砂輪切割出來(lái)的，切割深淺的精度要求很高。如果切割得過淺，電阻膜層就不能完全斷開。如果切割得過深，就會(huì)割傷瓷棒，并且令到隨后的膜層切割變?cè)�。切割得過淺和過深，都會(huì)給最終的電阻產(chǎn)品帶來(lái)噪聲。
現(xiàn)代的電阻制造技術(shù)，是采用YAg激光束來(lái)完成螺旋刻槽的。激光束刻槽要窄得多，而且也更準(zhǔn)確。但即便如此，若處置不當(dāng)，也可能會(huì)出現(xiàn)問題。如果激光束的能量不足，電阻膜層不能被完全燒斷，就會(huì)出現(xiàn)刻槽處的相連現(xiàn)象。如果能量道強(qiáng)，膜層的刻槽邊緣就會(huì)變得參差不齊。以上兩種情況，都會(huì)帶來(lái)噪聲。
提高刻槽增益后，膜層電阻體就變窄，導(dǎo)致刻槽邊緣缺陷相應(yīng)地增多。這種效應(yīng)，可通過制造商所公布的噪聲性能——值大于lOOkQ的薄膜電阻的過量噪聲(excess noise) -反映出來(lái)。其帶來(lái)的影響，對(duì)小功率電阻來(lái)說特別明顯，因?yàn)檫@些電阻尺寸小，需要更高的刻槽增益。
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