光刻膠的選擇是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程。主要的決定因素是晶圓表面對(duì)尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG膠首先必須具有產(chǎn)生那些所要求尺寸的能力。除了這些，還必須有在刻蝕過(guò)程中阻擋刻蝕的功能。在阻擋刻蝕的作用中，保持特定厚度的光刻膠層中一定不能存在針孔。另外，光刻膠必須能和晶圓表面很好地黏結(jié)，否則刻蝕后的圖形就會(huì)發(fā)生扭曲，就像是如果在印刷過(guò)程中蠟紙沒(méi)有和表面貼緊的話(huà)，就會(huì)得到一個(gè)濺污的圖形。以上那些，連同工藝緯度和階梯覆蓋能力，都是光刻膠性能的要素。在光刻膠的選擇過(guò)程中，工藝師通常會(huì)在不同的性能因素中做出權(quán)衡。光刻膠是復(fù)雜化學(xué)工藝和設(shè)備系統(tǒng)的一部分，它們必須一起工作來(lái)產(chǎn)生好的圖形結(jié)果和可生產(chǎn)性，其設(shè)備必須使廠商擁有可接受的購(gòu)買(mǎi)成本。

   在光刻膠層能夠產(chǎn)生的最小圖形或其間距通常被作為對(duì)光刻膠分辨率（resolution capability）的參考，，在晶圓上最關(guān)鍵的器件和電路的尺寸( CD)是圖形化工藝的目標(biāo)。產(chǎn)生的圖形或其間距越小，說(shuō)明分辨率越高。一種特定光刻膠的分辨率，實(shí)際是指特工藝的分辨率，它包括曝光源和顯影工藝。改變其他的工藝參數(shù)會(huì)改變光刻膠固有的分辨率�？傮w來(lái)說(shuō)，越細(xì)的線(xiàn)寬需要越薄的光刻膠膜來(lái)產(chǎn)生。然而，光刻膠膜必須要足夠厚來(lái)實(shí)現(xiàn)阻擋刻蝕的功能，并且保證不能有針孔。光刻膠的選擇是這兩個(gè)目標(biāo)的權(quán)衡。

   用深寬比( aspect  ratio)來(lái)衡量光刻膠與分辨率和光刻膠厚度

相關(guān)的特殊能力（見(jiàn)圖8. 13）。深寬比是光刻膠厚度與圖形開(kāi)口尺寸的比值。隨著業(yè)界要求更小的圖形，圖形密度和形狀因子開(kāi)始在光刻膠設(shè)計(jì)方面產(chǎn)生影響。對(duì)于一種給定的光刻膠，孤立圖形、水接觸孔和高密度圖形的區(qū)域，由于反射效果和化學(xué)反應(yīng)因素，整個(gè)曝光和顯影都不同。從而，有專(zhuān)門(mén)用于這些情況而設(shè)計(jì)的光刻膠。

   正膠比負(fù)膠有更高的深寬比，也就是說(shuō)，對(duì)于一個(gè)給定的圖

形尺寸開(kāi)n，正膠的光刻膠層可以更厚。由于正膠的聚合物分子