前面介紹的各種濾波技術(shù),主要是針對(duì)目標(biāo)信號(hào)和背景信號(hào)在空間分布、光譜分EZJS1VC392布和時(shí)間分布上的差異性,采用相應(yīng)的濾波手段,確保在盡量不衰減目標(biāo)信號(hào)的前提下,抑制背景信號(hào),從而提高系統(tǒng)的信雜比,增強(qiáng)系統(tǒng)的探測(cè)能力。這些濾波技術(shù)并沒(méi)有改變各種背景輻射的光譜特性,只是通過(guò)一定的手段限制了背景信號(hào)進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)、到達(dá)探測(cè)器,因此我們稱這些濾波技術(shù)為被動(dòng)的雜散光抑制技術(shù)。

   在紅外光電系統(tǒng)的各種背景中,外部背景(如太陽(yáng)光、地氣系統(tǒng)雜散光等)的輻射特性是無(wú)法進(jìn)行改變的,但是內(nèi)部背景輻射的光譜特性和強(qiáng)度是可以通過(guò)對(duì)儀器各元部件的溫度控制進(jìn)行改變的。本節(jié)中將要討論的溫控技術(shù),就是通過(guò)對(duì)儀器溫度場(chǎng)的控制這樣一種主動(dòng)手段來(lái)抑制儀器內(nèi)部的雜散光。

   從前面“紅外輻射背景”一節(jié)中知道,對(duì)儀器背景輻射特性有影響的因素有兩個(gè),一個(gè)是各元部件的熱力學(xué)溫度,它決定了背景輻射的光譜分布特性;另一個(gè)是各元部件的溫度穩(wěn)定性,它決定了背景輻射的時(shí)間分布特性。

   紅外光電系統(tǒng)的溫控技術(shù)在第3章3.5節(jié)“熱控與制冷系統(tǒng)”中做了詳細(xì)的討論,這里不再重復(fù)。下面簡(jiǎn)要介紹一下國(guó)內(nèi)外一些典型的低溫光學(xué)系統(tǒng)。表4-4所示為國(guó)外某些觀測(cè)用低溫光學(xué)儀器的部分特性。