1 清洗

   使硅片表面潔凈、干燥,這樣的HAT2044R-EL-E襯底表面才能與光刻膠形成良好的接觸。

   2烘干

   襯底表面容易吸附濕氣,從而會影響光刻膠的黏附性,所以必須將襯底表面烘烤干燥。

   3增黏處理

   在同、液、氣三相交界處,自固一液界面經(jīng)過液體內部到氣一液界面之間的夾角稱為接觸角,通常以ε表示;它直接反映液體對固體表面的潤濕情況,接觸角愈小,潤濕得愈好,如圖96所示。

   圖⒐6 液體在同體表面上的接觸角

   為了使襯底與光刻膠之間黏附良好.需在烘干后的襯底表面涂上一層增黏劑,使襯底片和光刻膠之問的黏著力增強,這一步驟稱之為涂底。目前應用比較多的增黏劑是六甲基乙硅氮烷(HDMS)和=甲基甲硅烷基二乙胺(TMSDEA)。HMDS與s02表面鍵合示意圖如圖97所示,HMDs的作用是去掉⒏02表面的一OH基。HDMS首先與⒏Θ2表面的水反應,生成氣態(tài)的NH3和02,同時加人一個六甲基乙硅氧烷,這就形成了脫水表面。接下來,HDMS在加熱的條件下與釋放的O2反應,形成二甲基甲硅烷[Si(CH3)3彐的氧化物,并且鍵合在SK)2的表面上。這些反應使⒊O2上形成了一層疏水表面,因此,可以促進光刻膠在⒏O2表面的黏附能力。