光波傳播介質(zhì)折射率和光程長度的變化都將導(dǎo)致相千光相位的變化， T6A39FG從而引起干涉條紋強(qiáng)度的改變。干涉測量中就是利用這一性質(zhì)改變光載波的特征參量，以形成各種光學(xué)信息的。能夠引起光程差發(fā)生變化的參量有很多，如幾何距離、位移、角度、速度、溫度引起的熱膨脹等，這些參量都會(huì)引起光波傳播距離的改變；介質(zhì)的成分、密度、環(huán)境溫度、氣壓以及介質(zhì)周圍的電場、磁場等能引起折射率的變化；從物體表面反射光波的波面分布可以確定物體的形狀。因此，光學(xué)干涉技術(shù)可以用于檢測非光學(xué)參量，是一種非常有效的檢測手段。

   相位調(diào)制通常是利用不同形式的干涉儀，借助機(jī)械的、光學(xué)的、電子學(xué)的變換器件，將被測量的變化轉(zhuǎn)換為光路長度三和折射率刀的變化，用于檢測幾何和機(jī)械運(yùn)動(dòng)參量，分析物質(zhì)的理化特性。

   同頻相干信號的檢測方法

   在相位調(diào)制檢測系統(tǒng)中，被測參量一般通過改變干涉儀中傳輸光的光程而引起對光的相位調(diào)制，由干涉儀解調(diào)出來的信息是一幅干涉圖樣，它以干涉條紋的變化反映被測參量的信息。干涉條紋由干涉場上光程差相同的場點(diǎn)的軌跡形成。干涉條紋的形狀、間隔、顏色及位置的變化，均與光程的變化有關(guān)，因此，根據(jù)干涉條紋上述諸因素的變化，可以進(jìn)行長度、角度、平面度、折射率，氣體或液體含量、光學(xué)元件面形、光學(xué)系統(tǒng)像差、光學(xué)材料內(nèi)部缺陷等各種與光程有確定關(guān)系的幾何量和物理量的測量。因此，如何檢測干涉條紋就變得十分有意義。干涉條紋檢測實(shí)際是檢測干涉條紋的光強(qiáng)度分布或其隨時(shí)間的變化�；�本的條紋檢測法包括條紋光強(qiáng)檢測法、條紋比較法和條紋跟蹤法。