前面提到了接近式曝光的分辨率隨掩膜版與硅片之間的距離增大而迅速變差。在投影XC1765ELVO8C式曝光方式中,光學(xué)分辨率由下式?jīng)Q定,其中,慮1代表一個表征光刻工藝難易程度的正比系數(shù),一般來講,慮10,25~1.0之間。這其實就是著名的瑞利(Rayleigh)公式。根據(jù)此公式,光學(xué)分辨率由波長、數(shù)值孔徑以及工藝相關(guān)的乃l決定。如果需要印制更加小的圖形,所用的方式可以是同時縮小曝光波長,增加數(shù)值孔徑,減小屁1值,或者變化其中一個要素。在這一節(jié)中,我們將先介紹已有的通過減小波長和增加數(shù)值孔徑來提高分辨率的成果。有關(guān)如何在固定波長和數(shù)值孔徑的前提下,通過減小尼l因子來提高分辨率的方法,將在后面討論。

   盡管短波長可以成就高分辨率,其他幾個與光源的重要的參數(shù)也是必須考慮的,如發(fā)光強度(亮度)、頻率帶寬、相干性(有關(guān)相干性將在后面詳述)。經(jīng)過全面篩選,高壓汞燈因其 亮度和擁有許多尖銳譜線而被選作可靠的光源。不同的曝光波長可以通過使用不同波長的濾光片來選擇。能夠選擇單一波長的光,對光刻至關(guān)重要,因為一般的步進機對于非單色光會產(chǎn)生色差而導(dǎo)致成像質(zhì)量的下降。業(yè)界所用的G線、H線和I線分別指曝光機使用的436nm、405nm和365nm的汞燈譜線(見圖7.4)。