水罩相對硅片禁止時(shí)的接觸角
發(fā)布時(shí)間:2017/10/29 13:20:44 訪問次數(shù):722
一般通過減少水從浸沒水罩(in1n1crsion hood)之中的流失來改進(jìn)浸沒式光刻造成的缺陷。如圖7.49(a)、圖7,49(b)所示。例如加強(qiáng)抽取的效率、 V480LA40A使用氣簾(air knife)的保護(hù)(如阿斯麥公司的1900系列光刻機(jī)),如圖7.49(c)所示;還有提高光刻膠的接觸角(contactangle),如圖7.50(a)、圖7.50(b)所示。提高接觸角需要將提高所有接觸水的表面的疏水 性能,如光刻膠表面(對于不需要頂部涂層的光刻膠)、頂部涂層表面。而且,根據(jù)掃描速度不同,這種要求也會變得不同。通常,掃描速度越快,拖曳接觸角(Rece山ng Contact Angle,RCA)就會變小,造成水的流失。一般,對于6OOmm/s的掃描速度,不產(chǎn)生超標(biāo)缺陷的拖曳接觸角的要求在65~70°之間。如遇到太多缺陷,如大于幾十顆/硅片,在沒有找到問題原因時(shí),可以通過降低掃描速度來解決。不過,這樣要犧牲光刻機(jī)的單位時(shí)間產(chǎn)能。最好的辦法是增加拖曳接觸角。
一般通過減少水從浸沒水罩(in1n1crsion hood)之中的流失來改進(jìn)浸沒式光刻造成的缺陷。如圖7.49(a)、圖7,49(b)所示。例如加強(qiáng)抽取的效率、 V480LA40A使用氣簾(air knife)的保護(hù)(如阿斯麥公司的1900系列光刻機(jī)),如圖7.49(c)所示;還有提高光刻膠的接觸角(contactangle),如圖7.50(a)、圖7.50(b)所示。提高接觸角需要將提高所有接觸水的表面的疏水 性能,如光刻膠表面(對于不需要頂部涂層的光刻膠)、頂部涂層表面。而且,根據(jù)掃描速度不同,這種要求也會變得不同。通常,掃描速度越快,拖曳接觸角(Rece山ng Contact Angle,RCA)就會變小,造成水的流失。一般,對于6OOmm/s的掃描速度,不產(chǎn)生超標(biāo)缺陷的拖曳接觸角的要求在65~70°之間。如遇到太多缺陷,如大于幾十顆/硅片,在沒有找到問題原因時(shí),可以通過降低掃描速度來解決。不過,這樣要犧牲光刻機(jī)的單位時(shí)間產(chǎn)能。最好的辦法是增加拖曳接觸角。
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