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聚亞胺酯填充墊或其他一些特殊材料制成

發(fā)布時(shí)間:2018/2/10 20:21:19 訪問(wèn)次數(shù):521

    接著,在第一層光刻膠的上面,再徐一層相對(duì)比較薄的對(duì)紫外線敏感的正膠。 PCA82C250T這一層薄拋光墊由鑄形用聚亞胺酯( polyurethane)泡沫材料和填料、聚亞胺酯填充墊或其他一些特殊材料制成。拋光墊最重要的特性是具有多孔性、壓縮性和硬度”26 ;。,多孔性,一般用相對(duì)密度來(lái)衡量,控制拋光墊的微孔輸送磨料漿能力和孔壁去除物質(zhì)的能力.壓縮性和硬度是衡量拋光墊適應(yīng)開(kāi)始晶圓不規(guī)則表面的能力.一般來(lái)說(shuō),拋光墊越硬,整體平整度越好。軟的拋光墊會(huì)同時(shí)接觸晶圓高地和低地,從而可能引起不平整的拋光。還有一種可變形拋光頭,它町以更貼近晶圓初始表面2。

   由于雙重作用的結(jié)果,磨料漿的化學(xué)成分很復(fù)雜也很關(guān)鍵,、從機(jī)械角度來(lái)講,磨料漿攜帶磨粉、,細(xì)小的硅石(二氧化硅)用來(lái)研磨氧化層。氧化鋁( Al20,)是金屬的標(biāo)準(zhǔn)磨料漿。在多層金屬設(shè)計(jì)中往往使用多種金屬(見(jiàn)第13章),這就要求半導(dǎo)體丁業(yè)去尋找更普遍適用的磨粉。磨粉的直徑在10~ 300 nm之間。28。顆粒越大,晶圓表面機(jī)械損傷就越大。

   從化學(xué)角度來(lái)講,對(duì)于硅和二氧化硅,刻蝕劑一般為氫氧化鉀或氫氧化銨(低pH值的堿性溶液)  對(duì)于金屬,比如銅,反應(yīng)往往是從磨料漿中的水對(duì)銅的氧化開(kāi)始的。

   氧化后,堿性材料以化學(xué)方式將膜減薄,通過(guò)機(jī)械作用將其去除。

   生產(chǎn)中的磨料漿有多種添加劑。它們各有各的作用。通過(guò)平衡磨料漿的pH值,進(jìn)而控制磨粉的電荷積存。29,町以減少機(jī)械化學(xué)研磨的殘留物。堿性硅石磨粉漿pH值高而硅石磨粉漿pH值低(通常低于7)。其他的一些添加劑為表面活性劑,用來(lái)形成希望的流動(dòng)方式和作為螯合劑,螯合劑與金屬顆粒發(fā)生作用以減少它們回落附著在晶圓表面上、平坦化拋光的一些其他關(guān)鍵參數(shù)是磨料漿的pH值(酸堿度),在晶圓/拋光墊界面流體動(dòng)力學(xué)參數(shù)和磨料漿在不同材料的表面或其下層的刻蝕選擇性。







    接著,在第一層光刻膠的上面,再徐一層相對(duì)比較薄的對(duì)紫外線敏感的正膠。 PCA82C250T這一層薄拋光墊由鑄形用聚亞胺酯( polyurethane)泡沫材料和填料、聚亞胺酯填充墊或其他一些特殊材料制成。拋光墊最重要的特性是具有多孔性、壓縮性和硬度”26 ;。,多孔性,一般用相對(duì)密度來(lái)衡量,控制拋光墊的微孔輸送磨料漿能力和孔壁去除物質(zhì)的能力.壓縮性和硬度是衡量拋光墊適應(yīng)開(kāi)始晶圓不規(guī)則表面的能力.一般來(lái)說(shuō),拋光墊越硬,整體平整度越好。軟的拋光墊會(huì)同時(shí)接觸晶圓高地和低地,從而可能引起不平整的拋光。還有一種可變形拋光頭,它町以更貼近晶圓初始表面2。

   由于雙重作用的結(jié)果,磨料漿的化學(xué)成分很復(fù)雜也很關(guān)鍵,、從機(jī)械角度來(lái)講,磨料漿攜帶磨粉、,細(xì)小的硅石(二氧化硅)用來(lái)研磨氧化層。氧化鋁( Al20,)是金屬的標(biāo)準(zhǔn)磨料漿。在多層金屬設(shè)計(jì)中往往使用多種金屬(見(jiàn)第13章),這就要求半導(dǎo)體丁業(yè)去尋找更普遍適用的磨粉。磨粉的直徑在10~ 300 nm之間。28。顆粒越大,晶圓表面機(jī)械損傷就越大。

   從化學(xué)角度來(lái)講,對(duì)于硅和二氧化硅,刻蝕劑一般為氫氧化鉀或氫氧化銨(低pH值的堿性溶液)  對(duì)于金屬,比如銅,反應(yīng)往往是從磨料漿中的水對(duì)銅的氧化開(kāi)始的。

   氧化后,堿性材料以化學(xué)方式將膜減薄,通過(guò)機(jī)械作用將其去除。

   生產(chǎn)中的磨料漿有多種添加劑。它們各有各的作用。通過(guò)平衡磨料漿的pH值,進(jìn)而控制磨粉的電荷積存。29,町以減少機(jī)械化學(xué)研磨的殘留物。堿性硅石磨粉漿pH值高而硅石磨粉漿pH值低(通常低于7)。其他的一些添加劑為表面活性劑,用來(lái)形成希望的流動(dòng)方式和作為螯合劑,螯合劑與金屬顆粒發(fā)生作用以減少它們回落附著在晶圓表面上、平坦化拋光的一些其他關(guān)鍵參數(shù)是磨料漿的pH值(酸堿度),在晶圓/拋光墊界面流體動(dòng)力學(xué)參數(shù)和磨料漿在不同材料的表面或其下層的刻蝕選擇性。







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