目前有很多種多層光刻膠工藝。 PC817X2NIP0F工藝的選擇取決于光刻膠需要打開的圖形尺寸和晶圓表面形貌。盡管多層光刻膠工藝增加了額外的工藝步驟，但在某些場合它是唯一能達到規(guī)定圖形尺寸的方法。多層光刻膠工藝往往先在底部用較厚的光刻膠來填充凹處和平整晶圓表面。圖形首先在被平坦化的頂層光刻膠層中形成。因為該表面是平坦的，用這種表面成像（surface imaging）方法可以得到很小尺寸的圖形，避免了臺階圖形的反射和景深( DoF)問題。

   雙層光刻膠工藝使用兩層光刻膠，每一層的光刻膠具有不同的極性。此工藝適用于具有不同表面形貌的晶圓上小圖形的成像。首先，在晶圓表面涂一層相對比較厚的光刻膠并烘焙至熱流點（見圖10. 26）。典型的厚度為晶圓最大圖形臺階的3—4倍，目的是形成平坦的頂層光刻膠表面。典型的多層光刻膠工藝將用于對深紫外線敏感的正性聚甲基丙烯酸甲酯( PMMA)。

   開始

   1．涂第一層

   2．烘焙第一層以引起略微的流動

   3．涂第二層并進行顯影

   4．對第一層全面曝光

  5．顯影第一層

  6．刻蝕和去膠