敞口噴淋頭配高速旋轉(zhuǎn)盤式反應(yīng)室:該產(chǎn)品為中晟公司技術(shù),綜合利用了噴淋頭進(jìn)氣和高速旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),反應(yīng)腔結(jié)構(gòu)如圖⒈11所示。 P3R12E4JFF-Y5噴淋頭設(shè)計(jì)配高速旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,兩者間的距離超過50mm,既提供了均勻的氣體分配,又利用了高速旋轉(zhuǎn)的吸泵效應(yīng),實(shí)現(xiàn)了優(yōu)良的成膜均勻性,保證了反應(yīng)源的高效利用和薄膜高質(zhì)量外延生長。  

   進(jìn)氣系統(tǒng)采用噴淋頭,實(shí)現(xiàn)了氣體有效均勻混合;其噴孔較大,且敞口外擴(kuò),有效避免了噴淋頭表面沉積物的形成,減少了開腔維護(hù)的頻次,提升了設(shè)備的利用率。該技術(shù)中托盤與旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的結(jié)合設(shè)計(jì)巧妙可靠,使得托盤可以特別薄,在不增加轉(zhuǎn)動慣量的情況下可以面積更大,從而明顯提升單爐產(chǎn)能。反應(yīng)室的加熱系統(tǒng)為4區(qū)加熱,靈活便捷地實(shí)現(xiàn)了良好的溫場均勻性。反應(yīng)室配置有高速采樣光學(xué)溫度計(jì)和寬頻譜濾波穩(wěn)定功能,并配有熱電偶,提高了測溫的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,同時(shí)避免了其他設(shè)備技術(shù)中光學(xué)溫度測量系統(tǒng)必須采用的復(fù)雜昂貴的輻射修正系統(tǒng)。中晟的原位監(jiān)測系統(tǒng),高度集成了溫度和反射測量功能,且獨(dú)創(chuàng)性地實(shí)現(xiàn)了動態(tài)絕對定位追蹤與分析功能。

    MOCVD設(shè)備中的尾氣處理系統(tǒng)、智能控制與數(shù)據(jù)系統(tǒng),以及原位實(shí)時(shí)監(jiān)測系統(tǒng)等均是保障設(shè)備安全可靠和功能完整之重要的子系統(tǒng)。限于篇幅,本節(jié)只做簡單介紹,更多詳細(xì)內(nèi)容可參閱陸大成的著作[l㈨。