同樣功耗下使用低壓大電流比高壓小電流要安全得多
發(fā)布時間:2019/4/20 19:46:55 訪問次數(shù):4198
S與偏壓U。成正比,同樣功耗下使用低壓大電流比高壓小電流要安全得多。分析上式的分母可知,當(dāng)發(fā)射極等效的串聯(lián)電阻(冬。+恚)比發(fā)射結(jié)動態(tài)電阻.s與(RE+急)成反比,這就是RB. RE的電流負(fù)反饋效應(yīng),所以RE. RB分別稱為發(fā)射極、基極鎮(zhèn)流電阻,正確設(shè)計(jì)(RE+急)值對提高功率管可靠性是很重要的。由上式分子中的第二項(xiàng)可見,AE。越大,則S越大,所以重?fù)诫s引起發(fā)射區(qū)禁帶變窄效應(yīng),削弱了R。和R。的鎮(zhèn)流作用。這就是LEC(低發(fā)射區(qū)濃度)結(jié)構(gòu)、多晶發(fā)射區(qū)結(jié)構(gòu)以及新的異質(zhì)結(jié)NPN(GaAIAs-GaAs)結(jié)構(gòu)的雙極型晶體管熱穩(wěn)定性好的原因。
二次擊穿(SB)現(xiàn)象不僅在雙極功率管中存在,而且在點(diǎn)接觸二極管、CMOS集成電路中也存在。當(dāng)器件被偏置在某一特殊工作點(diǎn)(平面上USB、ISB處)時,電壓突然降落,電流突然上升,出現(xiàn)負(fù)阻的物理現(xiàn)象叫丘二次擊穿。這時若無限流或其他保護(hù)措施,器件將燒毀。雙極功率晶體管的二次擊穿情況。
二次擊穿與雪崩擊穿(一次擊穿)不同,雪崩擊穿是電擊穿一旦反偏壓下降,器件(若擊穿是在限流控制下)又可恢復(fù)正常,它是可逆非破壞性的。二次擊穿是破壞性的熱擊穿,并且為不可逆過程,有過量電流流過PN結(jié),溫度很高,使PN結(jié)燒毀。 肖特基勢壘二極管的正向壓降Uf及正向電流密度變化率碧比硅二極管小,故其熱 穩(wěn)定性相對較好。
可得熱穩(wěn)定臨界曲線,臨界曲線以內(nèi)為熱穩(wěn)定區(qū)。所以功率器件熱電是互為 反饋的,任意子器件上的電流增量必然會導(dǎo)致結(jié)溫增加,進(jìn)而引起電流高度集中,出現(xiàn)熱 斑。熱斑處溫度迅速增加,經(jīng)毫微秒至毫秒的延遲時間迅速趨于“熱奔”,直至器件燒毀。 與此相反,有時熱斑處溫度怛定,器件可暫時在這種狀態(tài)工作一段時間,稱此為穩(wěn)定熱 斑。其原因是熱斑處電流高度集中,出現(xiàn)了一系列高電流密度效應(yīng),例如,基區(qū)擴(kuò)展效應(yīng)和電流集邊效應(yīng),這些效應(yīng)的綜合結(jié)果使S有下降趨勢,S≤1即為穩(wěn)定熱斑區(qū)。
S與偏壓U。成正比,同樣功耗下使用低壓大電流比高壓小電流要安全得多。分析上式的分母可知,當(dāng)發(fā)射極等效的串聯(lián)電阻(冬。+恚)比發(fā)射結(jié)動態(tài)電阻.s與(RE+急)成反比,這就是RB. RE的電流負(fù)反饋效應(yīng),所以RE. RB分別稱為發(fā)射極、基極鎮(zhèn)流電阻,正確設(shè)計(jì)(RE+急)值對提高功率管可靠性是很重要的。由上式分子中的第二項(xiàng)可見,AE。越大,則S越大,所以重?fù)诫s引起發(fā)射區(qū)禁帶變窄效應(yīng),削弱了R。和R。的鎮(zhèn)流作用。這就是LEC(低發(fā)射區(qū)濃度)結(jié)構(gòu)、多晶發(fā)射區(qū)結(jié)構(gòu)以及新的異質(zhì)結(jié)NPN(GaAIAs-GaAs)結(jié)構(gòu)的雙極型晶體管熱穩(wěn)定性好的原因。
二次擊穿(SB)現(xiàn)象不僅在雙極功率管中存在,而且在點(diǎn)接觸二極管、CMOS集成電路中也存在。當(dāng)器件被偏置在某一特殊工作點(diǎn)(平面上USB、ISB處)時,電壓突然降落,電流突然上升,出現(xiàn)負(fù)阻的物理現(xiàn)象叫丘二次擊穿。這時若無限流或其他保護(hù)措施,器件將燒毀。雙極功率晶體管的二次擊穿情況。
二次擊穿與雪崩擊穿(一次擊穿)不同,雪崩擊穿是電擊穿一旦反偏壓下降,器件(若擊穿是在限流控制下)又可恢復(fù)正常,它是可逆非破壞性的。二次擊穿是破壞性的熱擊穿,并且為不可逆過程,有過量電流流過PN結(jié),溫度很高,使PN結(jié)燒毀。 肖特基勢壘二極管的正向壓降Uf及正向電流密度變化率碧比硅二極管小,故其熱 穩(wěn)定性相對較好。
可得熱穩(wěn)定臨界曲線,臨界曲線以內(nèi)為熱穩(wěn)定區(qū)。所以功率器件熱電是互為 反饋的,任意子器件上的電流增量必然會導(dǎo)致結(jié)溫增加,進(jìn)而引起電流高度集中,出現(xiàn)熱 斑。熱斑處溫度迅速增加,經(jīng)毫微秒至毫秒的延遲時間迅速趨于“熱奔”,直至器件燒毀。 與此相反,有時熱斑處溫度怛定,器件可暫時在這種狀態(tài)工作一段時間,稱此為穩(wěn)定熱 斑。其原因是熱斑處電流高度集中,出現(xiàn)了一系列高電流密度效應(yīng),例如,基區(qū)擴(kuò)展效應(yīng)和電流集邊效應(yīng),這些效應(yīng)的綜合結(jié)果使S有下降趨勢,S≤1即為穩(wěn)定熱斑區(qū)。
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