多種不同的方法被用來(lái)對(duì)芯片進(jìn)行修飾。如圖6.4a所示,介紹了不同的修飾技術(shù)和相關(guān)示蹤分子分析技術(shù)的關(guān)系,而每個(gè)芯片上靶示蹤分子數(shù)量與敏感程度緊密相連。HCPL-2531采用了與圖6.4a相對(duì)應(yīng)的水平坐標(biāo)圖、圖6.4b中顯示了不同示蹤點(diǎn)密度對(duì)應(yīng)的相關(guān)DNA芯片應(yīng)用領(lǐng)域c就圖6.4中提到的修飾技術(shù)而言,當(dāng)今,兩種最主流的技術(shù)是采用片外合成示蹤分子[15,16]的微標(biāo)定技術(shù)和光控機(jī)理下芯片上原位生長(zhǎng)示蹤分子技術(shù)。

   圖64 a)概況圖顯示了不同的芯片修飾技術(shù)和相關(guān)示蹤分子分

   析技術(shù)之間的關(guān)系,而每個(gè)芯片上靶示蹤分子數(shù)量反映了此關(guān)聯(lián)緊密程度 b)采用密度表征關(guān)聯(lián)程度的DNA芯片應(yīng)用領(lǐng)域圖(a)和b)

采用相同的水平坐標(biāo)軸)如今的微標(biāo)定技術(shù)能夠處理體積小于1nL的樣品,實(shí)現(xiàn)對(duì)間距尺寸在1OOum量級(jí)的樣品點(diǎn)進(jìn)行操作處理。因此,這種技術(shù)適合低密度和中等密度陣列規(guī)模監(jiān)測(cè)點(diǎn),此技術(shù)經(jīng)常被推薦用于疾病診斷。