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密封的器件在用機(jī)械方法去蓋時(shí)應(yīng)使受到的應(yīng)力最小

發(fā)布時(shí)間:2019/5/24 19:44:53 訪問次數(shù):3427

   本試驗(yàn)應(yīng)用于已做過包括最后密封封裝在內(nèi)的完整組裝過程的器件,密封的器件在用機(jī)械方法去蓋時(shí)應(yīng)使受到的應(yīng)力最小,應(yīng)至少從待檢驗(yàn)批中隨機(jī)抽取一個器件作為試驗(yàn)樣品。可采用下列方法中的一種進(jìn)行腐蝕試驗(yàn)。

GAL16LV8C-10LJN

   把去蓋的樣品完全浸入下述鋁腐蝕液中:H~RPo4(85%)∶H20∶IINo3(⒛%)=(體積比),該溶液溫度保持為50℃±5℃。在腐蝕過程中應(yīng)采用適于觀察浸入溶液中樣品的光學(xué)系統(tǒng)(如單筒、雙目或立體顯微鏡)檢查器件。器件的腐蝕時(shí)間應(yīng)是從裸露的鍵合點(diǎn)處完全去掉鋁金屬層所需總時(shí)間的兩倍。將經(jīng)腐蝕的器件從加熱溶液取出,在高純水中漂洗后用壓縮空氣或其他合適的氣流吹干。腐蝕和干燥之后至少用lO0倍放大倍數(shù)進(jìn)行最終的光學(xué)檢查。

   在室溫下將去蓋的器件樣品完全浸入到下述鋁腐蝕液中腐醋酸:去離子水=5∶80∶5∶10(體積比)。經(jīng)腐蝕的器件從溶液中取出,在高純水中漂洗后用壓縮空氣或其他合適的氣流吹干。腐蝕和干燥之后至少放大100進(jìn)行最終光學(xué)檢查。

   本試驗(yàn)應(yīng)用于已做過包括最后密封封裝在內(nèi)的完整組裝過程的器件,密封的器件在用機(jī)械方法去蓋時(shí)應(yīng)使受到的應(yīng)力最小,應(yīng)至少從待檢驗(yàn)批中隨機(jī)抽取一個器件作為試驗(yàn)樣品。可采用下列方法中的一種進(jìn)行腐蝕試驗(yàn)。

GAL16LV8C-10LJN

   把去蓋的樣品完全浸入下述鋁腐蝕液中:H~RPo4(85%)∶H20∶IINo3(⒛%)=(體積比),該溶液溫度保持為50℃±5℃。在腐蝕過程中應(yīng)采用適于觀察浸入溶液中樣品的光學(xué)系統(tǒng)(如單筒、雙目或立體顯微鏡)檢查器件。器件的腐蝕時(shí)間應(yīng)是從裸露的鍵合點(diǎn)處完全去掉鋁金屬層所需總時(shí)間的兩倍。將經(jīng)腐蝕的器件從加熱溶液取出,在高純水中漂洗后用壓縮空氣或其他合適的氣流吹干。腐蝕和干燥之后至少用lO0倍放大倍數(shù)進(jìn)行最終的光學(xué)檢查。

   在室溫下將去蓋的器件樣品完全浸入到下述鋁腐蝕液中腐醋酸:去離子水=5∶80∶5∶10(體積比)。經(jīng)腐蝕的器件從溶液中取出,在高純水中漂洗后用壓縮空氣或其他合適的氣流吹干。腐蝕和干燥之后至少放大100進(jìn)行最終光學(xué)檢查。

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