漏源導(dǎo)通電阻x柵極開關(guān)電荷的值適應(yīng)任何傳感器或接口
發(fā)布時間:2021/7/13 22:17:45 訪問次數(shù):251
10款適用于工業(yè)設(shè)備開關(guān)電源的新一代80V N溝道功率MOSFET“U-MOSⅩ-H系列”產(chǎn)品。
共提供三種類型的封裝: TK2R4E08QM、TK3R3E08QM、 TK5R3E08QM 和 TK7R0E08QM采用雙列直插式封裝TO-220.
這降低了漏源導(dǎo)通電阻x柵極開關(guān)電荷的值(開關(guān)應(yīng)用的品質(zhì)因數(shù))。
TK2R4A08QM、 TK3R2A08QM、 TK5R1A08QM 和 TK6R8A08QM采用絕緣型直插式封裝TO-220SIS;以及TK5R1P08QM 和 TK6R9P08QM采用貼片式封裝DPAK。
產(chǎn)品種類: MOSFET
技術(shù): Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: ATPAK-3
晶體管極性: P-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 100 V
Id-連續(xù)漏極電流: 28 A
Rds On-漏源導(dǎo)通電阻: 75 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 3.5 V
Qg-柵極電荷: 73 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 70 W
通道模式: Enhancement
封裝: Reel
配置: Single
系列: ATP301
晶體管類型: 1 P-Channel
商標: ON Semiconductor
下降時間: 190 ns
產(chǎn)品類型: MOSFET
上升時間: 130 ns
工廠包裝數(shù)量: 3000
子類別: MOSFETs
典型關(guān)閉延遲時間: 330 ns
典型接通延遲時間: 32 ns
單位重量: 4 g
與基于 GPU 的 SOM 相比,憑借 1.4 TOPS 的 AI 算力,Kria K26 SOM 使開發(fā)者可以創(chuàng)建能以更低時延和功耗提供3倍以上性能的視覺AI 應(yīng)用。
交鑰匙應(yīng)用免除了所有FPGA硬件設(shè)計工作,只需軟件開發(fā)者集成其定制 AI 模型、應(yīng)用代碼,并使用熟悉的設(shè)計環(huán)境,如 TensorFlow、Pytorch 或 Caffe 框架,以及 C、C++、OpenCL™ 和 Python 編程語言,通過 Vitis™ 統(tǒng)一軟件開發(fā)平臺和庫對視覺處理流進行選擇性修改。
(素材來源:eccn和ttic.如涉版權(quán)請聯(lián)系刪除。特別感謝)
10款適用于工業(yè)設(shè)備開關(guān)電源的新一代80V N溝道功率MOSFET“U-MOSⅩ-H系列”產(chǎn)品。
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這降低了漏源導(dǎo)通電阻x柵極開關(guān)電荷的值(開關(guān)應(yīng)用的品質(zhì)因數(shù))。
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產(chǎn)品種類: MOSFET
技術(shù): Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: ATPAK-3
晶體管極性: P-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 100 V
Id-連續(xù)漏極電流: 28 A
Rds On-漏源導(dǎo)通電阻: 75 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 3.5 V
Qg-柵極電荷: 73 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 70 W
通道模式: Enhancement
封裝: Reel
配置: Single
系列: ATP301
晶體管類型: 1 P-Channel
商標: ON Semiconductor
下降時間: 190 ns
產(chǎn)品類型: MOSFET
上升時間: 130 ns
工廠包裝數(shù)量: 3000
子類別: MOSFETs
典型關(guān)閉延遲時間: 330 ns
典型接通延遲時間: 32 ns
單位重量: 4 g
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交鑰匙應(yīng)用免除了所有FPGA硬件設(shè)計工作,只需軟件開發(fā)者集成其定制 AI 模型、應(yīng)用代碼,并使用熟悉的設(shè)計環(huán)境,如 TensorFlow、Pytorch 或 Caffe 框架,以及 C、C++、OpenCL™ 和 Python 編程語言,通過 Vitis™ 統(tǒng)一軟件開發(fā)平臺和庫對視覺處理流進行選擇性修改。
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