模擬控制界面的低端HID燈具鎮(zhèn)流器和可調(diào)光熒光燈

發(fā)布時(shí)間:2022/1/23 18:14:19 訪問(wèn)次數(shù):695

高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV光刻機(jī)是基于0.33數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的迭代產(chǎn)品，其具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為8納米，而現(xiàn)有的0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產(chǎn)3/2nm及以下更先進(jìn)制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產(chǎn)效率更高。

0.55NA EUV光刻系統(tǒng)造價(jià)相比第一代的EUV光刻機(jī)也更高,一臺(tái)0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的成本預(yù)計(jì)為3.186億美元，而目前正在出貨的EUV光刻系統(tǒng)則為1.534億美元。

ASML獲得的價(jià)值為70.50億歐元的新增訂單當(dāng)中，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)和0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的訂單金額就達(dá)到了26億歐元。

這兩款產(chǎn)品都已得到歐洲和北美主要汽車(chē)制造商的認(rèn)可，目前已經(jīng)量產(chǎn)，可提供樣品。

收發(fā)器專(zhuān)為高速CAN應(yīng)用而設(shè)計(jì)，傳輸速度高達(dá)1MB/秒，并且開(kāi)發(fā)過(guò)程中和汽車(chē)主要生產(chǎn)廠商通力合作，使新產(chǎn)品具有極低的電磁輻射（EME）特性，激振效應(yīng)保護(hù)功能更強(qiáng)。即使對(duì)于ECU日益增多、總線拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)持續(xù)復(fù)雜化的當(dāng)前最先進(jìn)的網(wǎng)絡(luò)，上述特點(diǎn)也能確保通信的可靠性。

改進(jìn)后的ESD性能（IEC 61000-4-2標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的±8kV）使制造商在無(wú)需外部ESD保護(hù)的情況下即可建立電控單元，從而在顯著降低整體系統(tǒng)成本的同時(shí)，仍能持續(xù)滿足最新ESD需求。

8KB的閃存AT90PWM3和AT90PWM2都整合了DALI協(xié)定，因而允許通過(guò)聯(lián)網(wǎng)使鎮(zhèn)流器與一個(gè)中央系統(tǒng)相連，從而實(shí)現(xiàn)更高的對(duì)燈光亮度控制的靈活性、維護(hù)上的好處和更大程度的節(jié)能。

這款驅(qū)動(dòng)電路板的規(guī)格符合Nuventix公司SynJet MR16 及 PAR38 模塊的要求。

4KB的閃存AT90PWM1則為需要模擬控制界面的低端HID燈具鎮(zhèn)流器和可調(diào)光熒光燈帶來(lái)了具有成本效益的解決方案。

微控制器擁有專(zhuān)用的外圍器件來(lái)管理 PFC 的功能和控制燈具的功率，因而可以減少外部部件的數(shù)量。