130nm銅連接工藝制造水平移動縮短通路需要把晶體管做得更窄
發(fā)布時間:2022/9/27 13:18:27 訪問次數(shù):299
CMOS邏輯工藝生產(chǎn)出64M位鐵電RAM(FRAM)芯片,能代替各種應(yīng)用的嵌入式閃存和嵌入式DRAM。同一芯片上有嵌入式存儲器和處理器,外設(shè)和其它元件將會降低元件數(shù)量和系統(tǒng)復(fù)雜性,增加系統(tǒng)性能和數(shù)據(jù)安全。FRAM比其它的嵌入式存儲器的制造成本低,功耗也低。
其它的潛在市場包括有寬帶接入,消費(fèi)類電子和TI公司的大量的可編程DSP。
FRAM測試芯片是用標(biāo)準(zhǔn)的130nm銅連接工藝制造,僅增加兩道掩模工序。
1.5V芯片證明了迄今為止最小的FRAM單元,尺寸僅為0.52平方微米,因此在同樣的芯片上能得到比SRAM密度更高的存儲器。
在這種情況下,IBM采用雙極晶體管。在雙極晶體管,電子的移動是垂直的,所以,降低晶體管的高度而不是寬度,能改善速度。IBM采用新穎的垂直縮放比例技術(shù),降低了晶體管的高度,縮短了電子移動通道,從而改善了性能。
IBM的SiGe芯片用現(xiàn)有的生產(chǎn)線制造,能以最小的成本迅速引用新技術(shù)。這使得SiGe技術(shù)擴(kuò)展了性能,延長了手機(jī)和RF通信產(chǎn)品的電池壽命。
該器件能在2.7-3.3V下工作,在0.5ms內(nèi)編程,而EEPROM則需要0.5s。它不需要延時,在標(biāo)準(zhǔn)總線的寫入速度達(dá)1MHz,而EEPROM的寫入時延就要10ms。
封裝分成兩個獨(dú)立的數(shù)據(jù)總線,這樣數(shù)據(jù)和程序能同時處理,大大地降低了處理時間。
MB84VY6A4A1的尺寸為15mm(長)x11mm(寬)x1.4mm(高)。球間距為0.8mm,和四片裝的MCP一樣大,而存儲容兩卻增加了20%。
CMOS邏輯工藝生產(chǎn)出64M位鐵電RAM(FRAM)芯片,能代替各種應(yīng)用的嵌入式閃存和嵌入式DRAM。同一芯片上有嵌入式存儲器和處理器,外設(shè)和其它元件將會降低元件數(shù)量和系統(tǒng)復(fù)雜性,增加系統(tǒng)性能和數(shù)據(jù)安全。FRAM比其它的嵌入式存儲器的制造成本低,功耗也低。
其它的潛在市場包括有寬帶接入,消費(fèi)類電子和TI公司的大量的可編程DSP。
FRAM測試芯片是用標(biāo)準(zhǔn)的130nm銅連接工藝制造,僅增加兩道掩模工序。
1.5V芯片證明了迄今為止最小的FRAM單元,尺寸僅為0.52平方微米,因此在同樣的芯片上能得到比SRAM密度更高的存儲器。
在這種情況下,IBM采用雙極晶體管。在雙極晶體管,電子的移動是垂直的,所以,降低晶體管的高度而不是寬度,能改善速度。IBM采用新穎的垂直縮放比例技術(shù),降低了晶體管的高度,縮短了電子移動通道,從而改善了性能。
IBM的SiGe芯片用現(xiàn)有的生產(chǎn)線制造,能以最小的成本迅速引用新技術(shù)。這使得SiGe技術(shù)擴(kuò)展了性能,延長了手機(jī)和RF通信產(chǎn)品的電池壽命。
該器件能在2.7-3.3V下工作,在0.5ms內(nèi)編程,而EEPROM則需要0.5s。它不需要延時,在標(biāo)準(zhǔn)總線的寫入速度達(dá)1MHz,而EEPROM的寫入時延就要10ms。
封裝分成兩個獨(dú)立的數(shù)據(jù)總線,這樣數(shù)據(jù)和程序能同時處理,大大地降低了處理時間。
MB84VY6A4A1的尺寸為15mm(長)x11mm(寬)x1.4mm(高)。球間距為0.8mm,和四片裝的MCP一樣大,而存儲容兩卻增加了20%。
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