先進(jìn)制程，如7nm和5nm等設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)，芯片制造商想要找到產(chǎn)品上的疊對誤差、線寬尺寸不均勻和易失效點(diǎn)(Hotspots)的明確起因?qū)⒆兊迷絹碓嚼щy。

5款圖案成型控制系統(tǒng)，主要針對7nm以下的邏輯和尖端內(nèi)存設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)，以幫助芯片制造商實(shí)現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV光刻所需的嚴(yán)格工藝寬容度。

產(chǎn)品分別為ATL疊對良測系統(tǒng)和SpectraFilm™F1薄膜量測系統(tǒng)，他們可以針對FinFET、DRAM、3D NAND和其他復(fù)雜器件結(jié)構(gòu)的制造提供工藝表征分析和偏移監(jiān)控。

Teron™ 640e光罩檢測產(chǎn)品系列和LMS IPRO7光罩疊對位準(zhǔn)量測系統(tǒng)可以協(xié)助掩模廠開發(fā)和認(rèn)證EUV和先進(jìn)的光學(xué)光罩。5D Analyzer®X1先進(jìn)數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)提供開放架構(gòu)的基礎(chǔ)，以支持晶圓廠量身定制分析和實(shí)時工藝控制的應(yīng)用。

這五款系統(tǒng)將為我們的客戶提供KLA-Tencor最尖端的技術(shù)，幫助他們降低由每個晶圓、光罩和工藝步驟所導(dǎo)致的圖案成型誤差，從制程的源頭進(jìn)行控制，及早發(fā)現(xiàn)錯誤，避免造成更大的損失。

CAN總線中最常用的濾波器組件就是共模扼流圈。

共模扼流圈的構(gòu)成方式是將兩個線圈繞在同一個鐵芯上。在每個線圈繞組方向的安排方面，要使得共模電流(也就是說，每個線圈內(nèi)的電流方向一致)具有共用同一極性的磁通量。

這使得共模扼流圈可以運(yùn)行為針對共模信號的電感器，從而提供一個隨上升的頻率而增加的阻抗。

差分模式電流(也就是說，每個線圈內(nèi)的電流方向相反)將使它們的磁通量與反向極性相互作用。對于諸如CAN信號的均衡波形，每個線圈內(nèi)相反磁通量的幅度將會相等，因此不會在鐵芯內(nèi)累積靜磁通。這使得扼流圈運(yùn)行為一個針對CAN信號的短接電路。