摘要:將mems技術(shù)用于自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)具有重大意義。本文從原理及制作工藝上論述了幾種新型的可變形反射鏡,為下一步的深入研究打下基礎(chǔ)。
關(guān)鍵詞:硅微加工;自適應(yīng)光學(xué);可變形反射鏡 中圖分類號:tn256 文獻(xiàn)標(biāo)識碼: a 文章編號:1003-353x(2004)05-0064-04
1 前言 自適應(yīng)光學(xué)是新近發(fā)展起來的一種集光學(xué)、機(jī)械與電學(xué)為一身的技術(shù),一方面由于沒有一種技術(shù)能同時對其中的核心部件如可變形反射鏡、控制系統(tǒng)及波前探測器等進(jìn)行制造,這就決定了其系統(tǒng)既復(fù)雜又昂貴,極大地限制了其應(yīng)用范圍;另一方面自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)又具有傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)無法比擬的優(yōu)越性能,尤其在一些特殊應(yīng)用場合如航空航天領(lǐng)域、軍事領(lǐng)域等。由此可見,發(fā)展自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)是必要的。因而,在保證性能的前提下盡可能降低系統(tǒng)的復(fù)雜程度和成本是當(dāng)前研究的主要方向。 本文主要討論dms就是自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中一個重要的組成部分,其主要是用來補(bǔ)償由光路中各種因素引起的成像質(zhì)量降低的問題[1]。圖1給出了一種傳統(tǒng)的機(jī)械式可變形反射鏡的典型結(jié)構(gòu)[2]。 它主要利用材料的逆壓電特性,通過施加電壓,引起材料膨脹或收縮,從而帶動鏡面變形。其缺點在于:①系統(tǒng)體積龐大;②驅(qū)動電壓大,且變形量;③單個驅(qū)動單元造價昂貴。同時由于壓電材料的性質(zhì)決定了整個系統(tǒng)的響應(yīng)速度較慢,因而它不適用于有特殊要求的實時控制系統(tǒng)。為了克服上述缺點,進(jìn)一步拓寬自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域,人們一直在不斷探索,隨著微加工技術(shù)的出現(xiàn),這一問題正在逐步得到解決。以下介紹三種基于硅微加工工藝設(shè)計的新型dms。 2 設(shè)計及制造 2.1 薄膜dms
薄膜dms整體結(jié)構(gòu)如圖2。 其具體加工工藝為:首先在準(zhǔn)備好的硅片兩側(cè),用lpcvd方法淀積一層數(shù)微米厚的氮化硅,如圖3(a),其作用為構(gòu)成反射鏡鏡面主體和作為硅片背腐蝕的掩模;其次用典型的光刻、腐蝕方法對硅片進(jìn)行背腐蝕,加工出設(shè)計的鏡面形狀,如圖3(b);然后在另一襯底上(通常是硅片或玻璃)通過沉積、光刻和腐蝕方法加工出所需的電極及引線,如圖3(c);接著通過鍵合工藝,將上述二者合二為一,如圖3(d);最后經(jīng)過封裝等一系列后續(xù)工藝,即可制造出最終成品。
由圖3可知,其鏡面主體是由一層厚度為幾微米的si3n4膜構(gòu)成的。為了提高鏡面的反射率,通常都在其上表面鍍上幾百納米厚的金、鋁等高反材料。整個系統(tǒng)是通過施加在底部電極上的電壓產(chǎn)生的靜電力驅(qū)動鏡面向下運動,從而改變反射面面型,達(dá)到特定的目的。最常見的是用作聚焦校正器,通過改變施加在電極上電壓的大小,就可控制鏡面的曲率半徑,相應(yīng)獲得不同的焦點位置。 此種反射鏡的特點是結(jié)構(gòu)簡單,加工工藝易于實現(xiàn),響應(yīng)頻率高。但是有一點不能忽視,由于鏡面主體是由一薄層si3n4構(gòu)成的,而lpcvd沉積的si3n4膜內(nèi)往往有很大的內(nèi)應(yīng)力,因而不可能做出具有大表面積的反射鏡,同時其鏡面的平整度也有待進(jìn)一步改進(jìn)。有報道指出[3],已成功研制出具有此種結(jié)構(gòu)的直徑為15mm,焦距變化為5m~∞的可變形反射鏡。 2.2 平面盤式dms
此結(jié)構(gòu)是從上一結(jié)構(gòu)發(fā)展而來的[4,5] ,如圖4所示。這種結(jié)構(gòu)的最大特點在于其鏡面是由硅片的一個表面所構(gòu)成的,它充分利用了整個硅片機(jī)械性能穩(wěn)定的特點,通過化學(xué)機(jī)械拋光(cmp)處理,獲得具有理想平整度的鏡面質(zhì)量,極大改善了其光學(xué)特性。
其制作步驟(圖5)為:首先在硅片兩面沉積幾十納米的si3n4,然后在其上旋涂光刻膠并
余洪斌,陳海清,竺子民,李俊,王忠 | (華中科技大學(xué)光電子工程系,湖北 武漢 430074) | 摘要:將mems技術(shù)用于自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)具有重大意義。本文從原理及制作工藝上論述了幾種新型的可變形反射鏡,為下一步的深入研究打下基礎(chǔ)。
關(guān)鍵詞:硅微加工;自適應(yīng)光學(xué);可變形反射鏡 中圖分類號:tn256 文獻(xiàn)標(biāo)識碼: a 文章編號:1003-353x(2004)05-0064-04
1 前言 自適應(yīng)光學(xué)是新近發(fā)展起來的一種集光學(xué)、機(jī)械與電學(xué)為一身的技術(shù),一方面由于沒有一種技術(shù)能同時對其中的核心部件如可變形反射鏡、控制系統(tǒng)及波前探測器等進(jìn)行制造,這就決定了其系統(tǒng)既復(fù)雜又昂貴,極大地限制了其應(yīng)用范圍;另一方面自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)又具有傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)無法比擬的優(yōu)越性能,尤其在一些特殊應(yīng)用場合如航空航天領(lǐng)域、軍事領(lǐng)域等。由此可見,發(fā)展自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)是必要的。因而,在保證性能的前提下盡可能降低系統(tǒng)的復(fù)雜程度和成本是當(dāng)前研究的主要方向。 本文主要討論dms就是自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中一個重要的組成部分,其主要是用來補(bǔ)償由光路中各種因素引起的成像質(zhì)量降低的問題[1]。圖1給出了一種傳統(tǒng)的機(jī)械式可變形反射鏡的典型結(jié)構(gòu)[2]。 它主要利用材料的逆壓電特性,通過施加電壓,引起材料膨脹或收縮,從而帶動鏡面變形。其缺點在于:①系統(tǒng)體積龐大;②驅(qū)動電壓大,且變形量;③單個驅(qū)動單元造價昂貴。同時由于壓電材料的性質(zhì)決定了整個系統(tǒng)的響應(yīng)速度較慢,因而它不適用于有特殊要求的實時控制系統(tǒng)。為了克服上述缺點,進(jìn)一步拓寬自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域,人們一直在不斷探索,隨著微加工技術(shù)的出現(xiàn),這一問題正在逐步得到解決。以下介紹三種基于硅微加工工藝設(shè)計的新型dms。 2 設(shè)計及制造 2.1 薄膜dms
薄膜dms整體結(jié)構(gòu)如圖2。 其具體加工工藝為:首先在準(zhǔn)備好的硅片兩側(cè),用lpcvd方法淀積一層數(shù)微米厚的氮化硅,如圖3(a),其作用為構(gòu)成反射鏡鏡面主體和作為硅片背腐蝕的掩模;其次用典型的光刻、腐蝕方法對硅片進(jìn)行背腐蝕,加工出設(shè)計的鏡面形狀,如圖3(b);然后在另一襯底上(通常是硅片或玻璃)通過沉積、光刻和腐蝕方法加工出所需的電極及引線,如圖3(c);接著通過鍵合工藝,將上述二者合二為一,如圖3(d);最后經(jīng)過封裝等一系列后續(xù)工藝,即可制造出最終成品。
由圖3可知,其鏡面主體是由一層厚度為幾微米的si3n4膜構(gòu)成的。為了提高鏡面的反射率,通常都在其上表面鍍上幾百納米厚的金、鋁等高反材料。整個系統(tǒng)是通過施加在底部電極上的電壓產(chǎn)生的靜電力驅(qū)動鏡面向下運動,從而改變反射面面型,達(dá)到特定的目的。最常見的是用作聚焦校正器,通過改變施加在電極上電壓的大小,就可控制鏡面的曲率半徑,相應(yīng)獲得不同的焦點位置。 此種反射鏡的特點是結(jié)構(gòu)簡單,加工工藝易于實現(xiàn),響應(yīng)頻率高。但是有一點不能忽視,由于鏡面主體是由一薄層si3n4構(gòu)成的,而lpcvd沉積的si3n4膜內(nèi)往往有很大的內(nèi)應(yīng)力,因而不可能做出具有大表面積的反射鏡,同時其鏡面的平整度也有待進(jìn)一步改進(jìn)。有報道指出[3],已成功研制出具有此種結(jié)構(gòu)的直徑為15mm,焦距變化為5m~∞的可變形反射鏡。 2.2 平面盤式dms
此結(jié)構(gòu)是從上一結(jié)構(gòu)發(fā)展而來的[4,5] ,如圖4所示。這種結(jié)構(gòu)的最大特點在于其鏡面是由硅片的一個表面所構(gòu)成的,它充分利用了整個硅片機(jī)械性能穩(wěn)定的特點,通過化學(xué)機(jī)械拋光(cmp)處理,獲得具有理想平整度的鏡面質(zhì)量,極大改善了其光學(xué)特性。
其制作步驟(圖5)為:首先在硅片兩面沉積幾十納米的si3n4,然后在其上旋涂光刻膠并
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