利用SiO2薄膜,臺(tái)灣淡江大學(xué)推出小型壓力傳感器
發(fā)布時(shí)間:2008/5/29 0:00:00 訪問次數(shù):377
臺(tái)灣淡江大學(xué)機(jī)械與電機(jī)工程系日前開發(fā)成功出尺寸為50μm×50μm的小型壓力傳感器芯片。通過對(duì)壓力傳感器部分的薄膜形成手法進(jìn)行改進(jìn),實(shí)現(xiàn)了小型化。同時(shí)還使用明膠對(duì)傳感器部分進(jìn)行了封裝。這種壓力傳感器可用于生物相關(guān)領(lǐng)域。
據(jù)介紹,此次開發(fā)的工藝在傳感器部分的薄膜中使用了sio2(二氧化硅)層,在生產(chǎn)過程中支撐薄膜的犧牲層中使用了金屬層,在檢測(cè)壓力的傳感器壓電電阻中使用了多晶硅。全部均可采用臺(tái)積電雙層多晶硅四層金屬的cmos工藝形成。在sio2層的一部分中切出孔,并形成過孔,然后就能利用后續(xù)的蝕刻工藝去除犧牲層和過孔金屬。犧牲層去除后,位于犧牲層下方的硅底板也需進(jìn)行蝕刻處理,以使壓電電阻部分能除壓力而變化。金屬和硅底板的蝕刻采用的是普通蝕刻材料。
封閉帶孔薄膜的工藝使用的是不同于cmos的其他工藝。具體來說,就是從切孔中填入蛋白質(zhì)明膠,將薄膜的下部空間填充上。只需利用旋涂法涂布液態(tài)明膠即可。通過填充明膠,能夠排除外部環(huán)境的干擾。壓力靈敏度為8.56±0.13mv/v/psi,高于過去的壓電電阻型壓力傳感器。
據(jù)介紹,此次開發(fā)的工藝在傳感器部分的薄膜中使用了sio2(二氧化硅)層,在生產(chǎn)過程中支撐薄膜的犧牲層中使用了金屬層,在檢測(cè)壓力的傳感器壓電電阻中使用了多晶硅。全部均可采用臺(tái)積電雙層多晶硅四層金屬的cmos工藝形成。在sio2層的一部分中切出孔,并形成過孔,然后就能利用后續(xù)的蝕刻工藝去除犧牲層和過孔金屬。犧牲層去除后,位于犧牲層下方的硅底板也需進(jìn)行蝕刻處理,以使壓電電阻部分能除壓力而變化。金屬和硅底板的蝕刻采用的是普通蝕刻材料。
封閉帶孔薄膜的工藝使用的是不同于cmos的其他工藝。具體來說,就是從切孔中填入蛋白質(zhì)明膠,將薄膜的下部空間填充上。只需利用旋涂法涂布液態(tài)明膠即可。通過填充明膠,能夠排除外部環(huán)境的干擾。壓力靈敏度為8.56±0.13mv/v/psi,高于過去的壓電電阻型壓力傳感器。
臺(tái)灣淡江大學(xué)機(jī)械與電機(jī)工程系日前開發(fā)成功出尺寸為50μm×50μm的小型壓力傳感器芯片。通過對(duì)壓力傳感器部分的薄膜形成手法進(jìn)行改進(jìn),實(shí)現(xiàn)了小型化。同時(shí)還使用明膠對(duì)傳感器部分進(jìn)行了封裝。這種壓力傳感器可用于生物相關(guān)領(lǐng)域。
據(jù)介紹,此次開發(fā)的工藝在傳感器部分的薄膜中使用了sio2(二氧化硅)層,在生產(chǎn)過程中支撐薄膜的犧牲層中使用了金屬層,在檢測(cè)壓力的傳感器壓電電阻中使用了多晶硅。全部均可采用臺(tái)積電雙層多晶硅四層金屬的cmos工藝形成。在sio2層的一部分中切出孔,并形成過孔,然后就能利用后續(xù)的蝕刻工藝去除犧牲層和過孔金屬。犧牲層去除后,位于犧牲層下方的硅底板也需進(jìn)行蝕刻處理,以使壓電電阻部分能除壓力而變化。金屬和硅底板的蝕刻采用的是普通蝕刻材料。
封閉帶孔薄膜的工藝使用的是不同于cmos的其他工藝。具體來說,就是從切孔中填入蛋白質(zhì)明膠,將薄膜的下部空間填充上。只需利用旋涂法涂布液態(tài)明膠即可。通過填充明膠,能夠排除外部環(huán)境的干擾。壓力靈敏度為8.56±0.13mv/v/psi,高于過去的壓電電阻型壓力傳感器。
據(jù)介紹,此次開發(fā)的工藝在傳感器部分的薄膜中使用了sio2(二氧化硅)層,在生產(chǎn)過程中支撐薄膜的犧牲層中使用了金屬層,在檢測(cè)壓力的傳感器壓電電阻中使用了多晶硅。全部均可采用臺(tái)積電雙層多晶硅四層金屬的cmos工藝形成。在sio2層的一部分中切出孔,并形成過孔,然后就能利用后續(xù)的蝕刻工藝去除犧牲層和過孔金屬。犧牲層去除后,位于犧牲層下方的硅底板也需進(jìn)行蝕刻處理,以使壓電電阻部分能除壓力而變化。金屬和硅底板的蝕刻采用的是普通蝕刻材料。
封閉帶孔薄膜的工藝使用的是不同于cmos的其他工藝。具體來說,就是從切孔中填入蛋白質(zhì)明膠,將薄膜的下部空間填充上。只需利用旋涂法涂布液態(tài)明膠即可。通過填充明膠,能夠排除外部環(huán)境的干擾。壓力靈敏度為8.56±0.13mv/v/psi,高于過去的壓電電阻型壓力傳感器。
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