羅門哈斯電子材料與IBM合作開發(fā)32納米和22納米制程的CMP技術(shù)
發(fā)布時(shí)間:2008/6/5 0:00:00 訪問次數(shù):645
為半導(dǎo)體行業(yè)提供高級(jí)化學(xué)機(jī)械研磨(cmp)技術(shù)的羅門哈斯公司電子材料公司,繼與ibm公司簽署協(xié)議共同開發(fā)為32納米以下制程的注入提供支持的電路圖案成形(patterning)材料和工藝后,近日又宣布與ibm簽署了另一項(xiàng)聯(lián)合開發(fā)協(xié)定。此項(xiàng)合作將專注于開發(fā)用于32納米和22納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的銅線和低絕緣(low-k)介質(zhì)集成的cmp工藝技術(shù)。
根據(jù)該協(xié)議,兩家公司將制定出一個(gè)完整的cmp耗材方案來(lái)支持32納米和22納米制程半導(dǎo)體器件的大規(guī)模生產(chǎn)。
目前,羅門哈斯的研發(fā)集中在低壓力研磨技術(shù)上,該技術(shù)在惡劣的條件下仍然可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模、可重演的生產(chǎn)。羅門哈斯提供多種特定用途的cmp耗材組合,并開發(fā)出了用于下一代技術(shù)節(jié)點(diǎn)的突破性技術(shù),同時(shí)滿足了器件制造商的低成本需求。
“隨著技術(shù)越來(lái)越復(fù)雜,要成功制造器件,研磨墊和研磨液技術(shù)變得至關(guān)重要”,ibm的半導(dǎo)體制程技術(shù)高級(jí)經(jīng)理dr. jeffrey hedrick說(shuō),“把羅門哈斯在電子材料領(lǐng)域全球聞名的專業(yè)能力與ibm在cmp制程技術(shù)方面的豐富知識(shí)相結(jié)合,有助于我們應(yīng)對(duì)未來(lái)cmp技術(shù)的挑戰(zhàn)。”
“30年來(lái)ibm一直是我們的重要客戶和合作伙伴,實(shí)際上它也是世界上首家把cmp技術(shù)引入到半導(dǎo)體制造過程的公司,”羅門哈斯電子材料部cmp技術(shù)總裁sam shoemaker說(shuō):“從那以后起,這種合作關(guān)系使我們一起為cmp研磨墊成功開發(fā)了好幾個(gè)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)平臺(tái)。我們希望這次與ibm的新合作能夠有助于解決在銅互連方面的幾個(gè)關(guān)鍵性問題,這些問題的解決將會(huì)惠及ibm及其客戶,并最終促成有益于半導(dǎo)體工業(yè)的技術(shù)進(jìn)步!
“開發(fā)用于先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的cmp耗材現(xiàn)在變得極為復(fù)雜,”羅門哈斯電子材料的首席技術(shù)官cathie markham解釋說(shuō),“要成功研發(fā)用于32納米和22納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的cmp制程,需要徹底了解不同制程條件下研磨墊,研磨液和調(diào)節(jié)劑之間的相互作用。而羅門哈斯在研磨墊,聚合物,研磨液以及cmp制程方面的專業(yè)性,決定了羅門哈斯在開發(fā)新一代cmp制程相關(guān)技術(shù)方面擁有著獨(dú)一無(wú)二的優(yōu)勢(shì)!
雙方將在ibm位于紐約的yorktown heights研發(fā)部門、albany nanotech項(xiàng)目基地--ualbany nanocollege,以及位于特拉華(delaware)州newark和亞里桑那(arizona)州phoenix的羅門哈斯研發(fā)中心開展合作。
為半導(dǎo)體行業(yè)提供高級(jí)化學(xué)機(jī)械研磨(cmp)技術(shù)的羅門哈斯公司電子材料公司,繼與ibm公司簽署協(xié)議共同開發(fā)為32納米以下制程的注入提供支持的電路圖案成形(patterning)材料和工藝后,近日又宣布與ibm簽署了另一項(xiàng)聯(lián)合開發(fā)協(xié)定。此項(xiàng)合作將專注于開發(fā)用于32納米和22納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的銅線和低絕緣(low-k)介質(zhì)集成的cmp工藝技術(shù)。
根據(jù)該協(xié)議,兩家公司將制定出一個(gè)完整的cmp耗材方案來(lái)支持32納米和22納米制程半導(dǎo)體器件的大規(guī)模生產(chǎn)。
目前,羅門哈斯的研發(fā)集中在低壓力研磨技術(shù)上,該技術(shù)在惡劣的條件下仍然可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模、可重演的生產(chǎn)。羅門哈斯提供多種特定用途的cmp耗材組合,并開發(fā)出了用于下一代技術(shù)節(jié)點(diǎn)的突破性技術(shù),同時(shí)滿足了器件制造商的低成本需求。
“隨著技術(shù)越來(lái)越復(fù)雜,要成功制造器件,研磨墊和研磨液技術(shù)變得至關(guān)重要”,ibm的半導(dǎo)體制程技術(shù)高級(jí)經(jīng)理dr. jeffrey hedrick說(shuō),“把羅門哈斯在電子材料領(lǐng)域全球聞名的專業(yè)能力與ibm在cmp制程技術(shù)方面的豐富知識(shí)相結(jié)合,有助于我們應(yīng)對(duì)未來(lái)cmp技術(shù)的挑戰(zhàn)!
“30年來(lái)ibm一直是我們的重要客戶和合作伙伴,實(shí)際上它也是世界上首家把cmp技術(shù)引入到半導(dǎo)體制造過程的公司,”羅門哈斯電子材料部cmp技術(shù)總裁sam shoemaker說(shuō):“從那以后起,這種合作關(guān)系使我們一起為cmp研磨墊成功開發(fā)了好幾個(gè)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)平臺(tái)。我們希望這次與ibm的新合作能夠有助于解決在銅互連方面的幾個(gè)關(guān)鍵性問題,這些問題的解決將會(huì)惠及ibm及其客戶,并最終促成有益于半導(dǎo)體工業(yè)的技術(shù)進(jìn)步!
“開發(fā)用于先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的cmp耗材現(xiàn)在變得極為復(fù)雜,”羅門哈斯電子材料的首席技術(shù)官cathie markham解釋說(shuō),“要成功研發(fā)用于32納米和22納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的cmp制程,需要徹底了解不同制程條件下研磨墊,研磨液和調(diào)節(jié)劑之間的相互作用。而羅門哈斯在研磨墊,聚合物,研磨液以及cmp制程方面的專業(yè)性,決定了羅門哈斯在開發(fā)新一代cmp制程相關(guān)技術(shù)方面擁有著獨(dú)一無(wú)二的優(yōu)勢(shì)!
雙方將在ibm位于紐約的yorktown heights研發(fā)部門、albany nanotech項(xiàng)目基地--ualbany nanocollege,以及位于特拉華(delaware)州newark和亞里桑那(arizona)州phoenix的羅門哈斯研發(fā)中心開展合作。
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