永光化學(xué)/電子化學(xué)事業(yè)處/技術(shù)發(fā)展部 顏料分散型彩色光阻劑(pigment dispersed color resists, pdcr)為lcd平面顯示器彩色化的關(guān)鍵材料，臺(tái)灣永光化學(xué)本著多年來(lái)致力于電子化學(xué)品開(kāi)發(fā)的經(jīng)驗(yàn)，并在1998年于工業(yè)技術(shù)研究院移轉(zhuǎn)此彩色光阻技術(shù)，至今已建立完整的技術(shù)能力，并成為臺(tái)灣第一家本土供應(yīng)的廠商。 永光開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品除能符合彩色濾光片制程上低曝光能量、高現(xiàn)像能力等寬容制程條件外，更具有高解析、高色飽和度之特性。在彩色光阻色度調(diào)配之技術(shù)上，永光更能快速提供符合客戶新色度產(chǎn)品需求之光阻材料。而這些自有技術(shù)能力當(dāng)可協(xié)助臺(tái)灣lcd產(chǎn)業(yè)充分發(fā)揮關(guān)鍵材料就地開(kāi)發(fā)與供應(yīng)的優(yōu)勢(shì)。 隨著彩色手機(jī)市場(chǎng)及小尺寸彩色面板應(yīng)用的快速發(fā)展，cstn lcd除挾著既有省能及低成本的優(yōu)勢(shì)外，過(guò)去令人詬病的應(yīng)答速率也因在驅(qū)動(dòng)ic效能瓶頸的突破，令cstn廠近來(lái)又重新找回市場(chǎng)的利基點(diǎn)。早在臺(tái)灣開(kāi)始引進(jìn)cstn lcd技術(shù)之初，永光化學(xué)即與臺(tái)灣cstn彩色濾光片 (cf) 廠商進(jìn)行相關(guān)材料的合作開(kāi)發(fā)。永光熟知cstn lcd產(chǎn)品對(duì)pdcr材料之需求，也充分掌握光阻劑配合cf制程所必須考慮的各項(xiàng)特性。特別是針對(duì)小尺寸彩色面板在設(shè)計(jì)上不似大面板走向標(biāo)準(zhǔn)化規(guī)格的趨勢(shì)，在色彩的呈現(xiàn)上因著產(chǎn)品類型的多元化，彩色光阻廠必須能針對(duì)lcd產(chǎn)品色彩的設(shè)計(jì)及cstn lcd構(gòu)裝上材料或組件的差異，在彩色光阻劑色度及制程特性上作不同的因應(yīng)調(diào)整。對(duì)此，無(wú)論是應(yīng)用在反射式cstn、半反射式cstn上的彩色光阻劑，或是針對(duì)red、green、blue三色光阻的特殊色度設(shè)計(jì)、調(diào)整白光色偏移(white balance)等需求，永光化學(xué)的彩色光阻材料均能提供解決的對(duì)策。近幾年來(lái)永光在cstn lcd彩色光阻劑系列產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)上，除能提供色彩飽和度從ntsc ratio 5~60%的光阻產(chǎn)品，在提升光阻劑亮度的進(jìn)展上已有關(guān)鍵性的突破。 cstn lcd以小尺寸面板產(chǎn)品為主，臺(tái)灣廠商多使用第一、二代設(shè)備及基板。相對(duì)而言，notebook pc、monitor、lcd tv等大尺寸面板產(chǎn)品，因應(yīng)答速率的要求高于cstn lcd的設(shè)計(jì)極限，幾乎都是tft lcd的市場(chǎng)。 因?yàn)楫a(chǎn)品尺寸的不同，tft lcd廠在面板產(chǎn)能及經(jīng)濟(jì)效益考慮下，大都以第三代以上的設(shè)備及基板尺寸作為投資目標(biāo)。為此，提供tft lcd廠彩色化組件的cf廠，其設(shè)備及基板的投資選擇也需與配合的tft lcd廠一致。對(duì)提供cf彩色化材料的彩色光阻劑廠來(lái)說(shuō)，基板尺寸的差異也是材料開(kāi)發(fā)技術(shù)上重要的分界。 cstn及tft lcd的彩色光阻劑技術(shù)上的差異，主要可從涂布特性及光阻與基板附著性兩方面來(lái)考量。在涂布特性上，基板擴(kuò)展到第三代以上尺寸后，光阻劑在基板上進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布時(shí)，由注入光阻劑的基板中心位置到玻璃端點(diǎn)的距離遠(yuǎn)長(zhǎng)于第一、二代基板，若光阻劑的設(shè)計(jì)未考量到流變性、流平性、及揮發(fā)速率的控制，光阻在涂布、預(yù)烤后將會(huì)出現(xiàn)判定異常的波痕(mura)現(xiàn)象。而在光阻與基板附著性上，因cstn使用的是soda-lime玻璃基板涂布一層sio2，與tft lcd使用的無(wú)堿玻璃不同，所以光阻劑的設(shè)計(jì)需考量到附著性差異的影響。除這兩方面的差異外，光阻材料的信賴性測(cè)試也因cstn構(gòu)裝上有使用overcoat保護(hù)層，而tft lcd的cf可有不使用的差異設(shè)計(jì)而有不同的規(guī)格要求。 近幾年臺(tái)灣在lcd上的耕耘已帶動(dòng)了新一波的產(chǎn)業(yè)投資熱潮，不論是tft、stn，包含大、小尺寸各型面板產(chǎn)品，多樣彩色化商品的推出及廣泛應(yīng)用的推展已是市場(chǎng)的趨勢(shì)。面對(duì)不論是新制造技術(shù)的需求，或是因應(yīng)多樣化產(chǎn)品的色度要求，pdcr廠與cf廠、lcd廠之密切合作與快速整合對(duì)技術(shù)的進(jìn)展或產(chǎn)品的推出極為關(guān)鍵。永光化學(xué)秉持著關(guān)懷客戶、共創(chuàng)價(jià)值的經(jīng)營(yíng)理念，以多年在pdcr開(kāi)發(fā)的經(jīng)驗(yàn)及自有技術(shù)，積極配合臺(tái)灣的lcd產(chǎn)業(yè)，加速推出新產(chǎn)品，以善盡本土材料供貨商之企業(yè)責(zé)任。 duv光阻劑 永光化學(xué)繼g-line及i-line光阻之后，目前在krf系統(tǒng)的248nm光阻方面，推出有epk711及721兩款產(chǎn)品，并已通過(guò)廠商實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證。其中epk711適用于180奈米邏輯線路制程之應(yīng)用，具有高穿透性及靈敏度，提供高曝光寬容度(exposure latitude)及聚焦景深(depth of focus)的制程窗口(process window)。epk721為適用于180奈米以下隨機(jī)動(dòng)態(tài)存取內(nèi)存(dram)產(chǎn)品制程，除具高分辨率及大聚焦景深外，還具備熱穩(wěn)定性。另正進(jìn)行開(kāi)發(fā)適用于140奈米以下隨機(jī)動(dòng)態(tài)存取內(nèi)存(dram)制程之光阻劑；除了關(guān)鍵層(critical layer)之光阻產(chǎn)品外，為配合客戶之制程轉(zhuǎn)換，也推出非關(guān)鍵層krf用厚膜光阻劑epk770，適用在離子植入之制程。另為配合客戶制程所須，亦正在研發(fā)適用于較低烘烤溫度制程之離子植入層用krf厚膜光阻劑。 至于在130奈米以下光阻劑的開(kāi)發(fā)，則持續(xù)開(kāi)發(fā)應(yīng)用于125奈米及110奈米的krf光阻劑，也已有初步成果。 縱觀目前半導(dǎo)體制程的技術(shù)結(jié)點(diǎn)，約略以180、130、90