差模輻射被模擬為一個小環(huán)形天線。HEF4053BT對于一個面積為A的小環(huán)路，載有電流Idm，在遠場中距離為r處，自由空間中測得的電場E的幅度等于(Kraus and Marhefka，2002，p．199，Eq.8)其中E的單位是Vlm，廠的單位是Hz，A的單位是m2，Idm的單位是A，r的單位是m，口是觀察點和環(huán)路平面垂線間的夾角。

   一個周長小于四分之一波長的小環(huán)中電流的相位處處都相同。對于較大的環(huán)，電流不再處處同相，因此，一些電流對于總的發(fā)射可能是減小而不是增加。

    如圖12-3所示，自由空間的一個小環(huán)天線方向圖是一個圓環(huán)體（面包圈形狀）。最大輻射來自環(huán)的邊緣并且出現(xiàn)在環(huán)平面上。零輻射出現(xiàn)在環(huán)平面的法線方向上。如圖12-3所示，因為電場是極化在環(huán)平面上，最大電場將被一個極化方向相同的接收天線所檢測到。

   圖12 -3-個小環(huán)天線自由空間的輻射方向圖

   當環(huán)的周長增加超過四分之一波長，圖12-3的輻射方向圖不再適用。對于周長等于一個波長的環(huán)，輻射方向圖將旋轉(zhuǎn)90。使最大輻射出現(xiàn)在環(huán)平面的法線方向。因此，小環(huán)的霉輻射方向成為大環(huán)的最大輻射方向。

   雖然式(12-1)是由圓環(huán)推導(dǎo)而來的，但因為小環(huán)輻射的幅度和方向圖與環(huán)的形狀無關(guān)，而只依賴于環(huán)的面積（Kraus和Marhefka，2002，p．212），所以它可應(yīng)用于任何平面環(huán)。無論環(huán)的形狀如何，所有相同面積的小環(huán)輻射相同。    

    第一項是一個描述媒質(zhì)特性的常數(shù)——該公式中是自由空間。第二項定義了輻射源的特性，即此環(huán)路。第三項表示場從源傳播過來的延遲。最后一項描述了測量點相對于環(huán)平面垂線的角度方向，即圖12-3中偏離Z軸的角度。

   式(12-1)是對于一個小環(huán)位于自由空間，周圍沒有反射面的情況。然而，大部分電子產(chǎn)品輻射的EMC測量是在地平面上的開闊場地進行的，而不是在自由空間。大地提供了一個必須考慮的反射面。這個反射地面可增大測量的發(fā)射6dB之多（或2倍）。考慮到這個反射，式(12-1)必須乘以系數(shù)2。