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霍爾元件的基本結(jié)構(gòu)

發(fā)布時(shí)間:2014/11/28 21:33:48 訪問(wèn)次數(shù):4317

   基于霍爾效應(yīng)原理工作的半導(dǎo)體器件稱為霍爾元件。按照結(jié)構(gòu)可以分為體型和薄膜型兩種,STV9427如圖3-37所示。由于GaAs、InAs材料的禁帶寬度Eg較大,性能穩(wěn)定,且遷移率岸較大的特點(diǎn),使得靈敏度系數(shù)較大,加之離子注入技術(shù)的發(fā)展,可將Si注入GaAs中,制成N型GaAs,采用低溫沉積S102包封,經(jīng)光刻、腐蝕及焊引線即可。一般加工出幾何結(jié)構(gòu)長(zhǎng)寬比為2:1的材料,做四個(gè)電極,a、b為輸入端,c、d為輸出端,如圖3-37(a)所示。

為了克服a、b電極的短路中和作用,加工為圖3-37(b)結(jié)構(gòu)。另外依據(jù)前面理論得知,元件的厚度越小,靈敏度越大,所以制備成薄膜型器件,如圖3-37(c)所示。一般采用蒸發(fā)法制備半導(dǎo)體硅薄膜時(shí),多數(shù)產(chǎn)品為多晶硅而不是單晶硅,其原因是單晶硅肚很小,因此這種工藝不適合制備霍爾元件,通常采用外延法生長(zhǎng)單晶硅來(lái)制備薄膜型霍爾元件,目前也能制備出熔點(diǎn)低、肛大的InAs薄膜型高靈敏器件。它的外形、結(jié)構(gòu)和符號(hào)如圖3-38歷示,它由霍爾片、四根引線和殼體組成;魻柶且粔K矩形半導(dǎo)體單晶薄片(一般為4mm×2mm×0. Imm),在它的長(zhǎng)度方向兩個(gè)端面上有兩根引線(圖中a、b線),稱為控制電流端引線,通常用紅色導(dǎo)線,在薄片的另兩個(gè)端面的中間,以點(diǎn)的形式對(duì)稱焊接兩根霍爾輸出引線(圖中c、d線),通常用綠色導(dǎo)線;魻栐臍んw是用非導(dǎo)磁金屬、陶瓷或環(huán)氧樹脂封裝。霍爾元件在電路中可用圖3-38(c)的兩種符號(hào)表示。

     

   基于霍爾效應(yīng)原理工作的半導(dǎo)體器件稱為霍爾元件。按照結(jié)構(gòu)可以分為體型和薄膜型兩種,STV9427如圖3-37所示。由于GaAs、InAs材料的禁帶寬度Eg較大,性能穩(wěn)定,且遷移率岸較大的特點(diǎn),使得靈敏度系數(shù)較大,加之離子注入技術(shù)的發(fā)展,可將Si注入GaAs中,制成N型GaAs,采用低溫沉積S102包封,經(jīng)光刻、腐蝕及焊引線即可。一般加工出幾何結(jié)構(gòu)長(zhǎng)寬比為2:1的材料,做四個(gè)電極,a、b為輸入端,c、d為輸出端,如圖3-37(a)所示。

為了克服a、b電極的短路中和作用,加工為圖3-37(b)結(jié)構(gòu)。另外依據(jù)前面理論得知,元件的厚度越小,靈敏度越大,所以制備成薄膜型器件,如圖3-37(c)所示。一般采用蒸發(fā)法制備半導(dǎo)體硅薄膜時(shí),多數(shù)產(chǎn)品為多晶硅而不是單晶硅,其原因是單晶硅肚很小,因此這種工藝不適合制備霍爾元件,通常采用外延法生長(zhǎng)單晶硅來(lái)制備薄膜型霍爾元件,目前也能制備出熔點(diǎn)低、肛大的InAs薄膜型高靈敏器件。它的外形、結(jié)構(gòu)和符號(hào)如圖3-38歷示,它由霍爾片、四根引線和殼體組成;魻柶且粔K矩形半導(dǎo)體單晶薄片(一般為4mm×2mm×0. Imm),在它的長(zhǎng)度方向兩個(gè)端面上有兩根引線(圖中a、b線),稱為控制電流端引線,通常用紅色導(dǎo)線,在薄片的另兩個(gè)端面的中間,以點(diǎn)的形式對(duì)稱焊接兩根霍爾輸出引線(圖中c、d線),通常用綠色導(dǎo)線;魻栐臍んw是用非導(dǎo)磁金屬、陶瓷或環(huán)氧樹脂封裝;爾元件在電路中可用圖3-38(c)的兩種符號(hào)表示。

     

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11-28霍爾元件的基本結(jié)構(gòu)

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