光電轉(zhuǎn)換和信號檢測部分的要求是指光電檢測器件及前置放大器的漂移和噪聲等也要比較小。

   在實(shí)際的干涉系統(tǒng)中，AD515ATH影響干涉信號調(diào)制度的因素還很多，如相干涉系統(tǒng)中的漫射光、干涉波面畸變、干涉系統(tǒng)機(jī)械部件精度等都會影響到干涉信號質(zhì)量。因此，對于應(yīng)用和設(shè)計(jì)光相位調(diào)制檢測系統(tǒng)，必須充分了解和考慮這些因素對干涉信號質(zhì)量的影響。應(yīng)用光的干涉效應(yīng)進(jìn)行測量的方法稱為干涉測量技術(shù)。一般干涉測量系統(tǒng)主要由光源、干涉儀、光電顯微鏡瞄準(zhǔn)部分以及信號接收和處理部分組成。根據(jù)測量對象及測量要求的不同而各有不同的組合，并由此形成了各種結(jié)構(gòu)形式的干涉測量系統(tǒng)。

   在光相位調(diào)制檢測系統(tǒng)中，被測參量一般是通過改變干涉儀中傳輸光的光程而引起對光的相位調(diào)制。由干涉儀解調(diào)出來的信息是一幅干涉圖樣，它以干涉條紋的變化反映被測參量的信息。干涉條紋是由于干涉場上光程差相同的場點(diǎn)軌跡形成。干涉條紋的形狀、間隔、顏色及位置的變化，均與光程變化有關(guān)。因此，根據(jù)干涉條紋上述諸因素的變化可以進(jìn)行長度、角度、平面度、折射率、氣體或液體含量、光學(xué)元件面形、光學(xué)系統(tǒng)像差、光學(xué)材料內(nèi)部缺陷等各種與光程有確定關(guān)系的幾何量和物理量的測量。