內(nèi)部連線水平的提高
發(fā)布時間:2015/10/22 20:44:43 訪問次數(shù):434
元件密度的增加帶來了連線問題、,IRFPG50PBF在住宅區(qū)的比喻中,用來增加密度的策略之一是減小街道的寬度,但是到一定的程度時街道對于汽車的通·行來說就太窄九同樣的事情也會發(fā)生在集成電路設(shè)汁中,元件密度的增加和緊密封裝減小廠連線所需的空間,解決方案是在元件形成的表面上使用多層絕緣層(見圖1. 13)和導(dǎo)電層相互疊加的多層連線(見第13章),
平坦化是在基片的有源晶體管和其他組件中形成的(通常是硅).j在201 1年,英特爾公r列宣布r具有源晶體管的柵極堆疊在晶圓上的一個新的j維(3D)器件(見圖1.14)8,,該器件被稱為i柵晶體管、,通過增加?xùn)艠O的表面積,該器件的性能得以增強(qiáng)(見第16章).
元件密度的增加帶來了連線問題、,IRFPG50PBF在住宅區(qū)的比喻中,用來增加密度的策略之一是減小街道的寬度,但是到一定的程度時街道對于汽車的通·行來說就太窄九同樣的事情也會發(fā)生在集成電路設(shè)汁中,元件密度的增加和緊密封裝減小廠連線所需的空間,解決方案是在元件形成的表面上使用多層絕緣層(見圖1. 13)和導(dǎo)電層相互疊加的多層連線(見第13章),
平坦化是在基片的有源晶體管和其他組件中形成的(通常是硅).j在201 1年,英特爾公r列宣布r具有源晶體管的柵極堆疊在晶圓上的一個新的j維(3D)器件(見圖1.14)8,,該器件被稱為i柵晶體管、,通過增加?xùn)艠O的表面積,該器件的性能得以增強(qiáng)(見第16章).
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