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載流子遷移率

發(fā)布時間:2015/10/23 20:07:41 訪問次數(shù):1463

   前面曾提到過, UA79M05CKVURG3在半導體材料中移動一個電子比空穴要容易。在電路中,我們對載流子(空穴和電子)移動所需能量和其移動的速度都感興趣。移動的速度稱為載流子遷移率( Carrier Mobility),空穴比電子遷移率低。在為電路選擇特定半導體材料時,這是個非常值得考慮的重要因素。

   鍺和硅是兩種重要的半導俸,在固態(tài)器件時代之初,第一個晶體管是由鍺制造的。但是鍺在工藝和器件性能上有問題。它的937℃熔點限制了高溫工藝,更重要的是,它表面缺少自然發(fā)生的氧化物,從而容易漏電。

   硅與二:氧化硅平面f藝的發(fā)展解決r集成電路的漏電問題,使得電路表面輪廓更平坦并日.硅的1415℃的熔點允許更高溫的T藝,因此,如今世界}:超過r 90%的生產(chǎn)用品圓材料都是硅.


   前面曾提到過, UA79M05CKVURG3在半導體材料中移動一個電子比空穴要容易。在電路中,我們對載流子(空穴和電子)移動所需能量和其移動的速度都感興趣。移動的速度稱為載流子遷移率( Carrier Mobility),空穴比電子遷移率低。在為電路選擇特定半導體材料時,這是個非常值得考慮的重要因素。

   鍺和硅是兩種重要的半導俸,在固態(tài)器件時代之初,第一個晶體管是由鍺制造的。但是鍺在工藝和器件性能上有問題。它的937℃熔點限制了高溫工藝,更重要的是,它表面缺少自然發(fā)生的氧化物,從而容易漏電。

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