接近式光刻機(jī)：接近式光K7R161882B-FC25000刻機(jī)是接觸式光刻機(jī)的自然演變。該系統(tǒng)本質(zhì)上是—個(gè)接觸式光刻機(jī)，只是帶有使晶圓近距離接觸或軟接觸掩模版的機(jī)械裝置。有時(shí)接近式光刻機(jī)也稱(chēng)為軟接觸機(jī)器( soft-contact machine)。

   接近式光刻機(jī)的性能表現(xiàn)是分辨率與缺陷密度的折中。當(dāng)晶圓與掩模版軟接觸時(shí)，總會(huì)有一砦光發(fā)散，這樣會(huì)使光刻膠上的圖形模糊。而另一方面，軟接觸可以使由掩模版和光刻膠的損傷所導(dǎo)致的缺陷數(shù)量大大減少。但即使缺陷密度得以改善，接近式光刻機(jī)在超大規(guī)模集成電路( VLSI)的光刻掩膜工藝中也少有用武之地。         

   掃描投影光刻機(jī)：接觸式光刻機(jī)的末期持續(xù)了幾年時(shí)間，在此期間探索和開(kāi)發(fā)一神替代品的工作也在進(jìn)行之中。探索工作的中心思想是將掩模版上的圖形投影到晶圓表面t（見(jiàn)圖8. 46），很像是幻燈片（掩模版）被投影到屏幕（晶圓）上。然而，看似簡(jiǎn)單，在技術(shù)上卻要有一個(gè)極佳的光學(xué)系統(tǒng)才能準(zhǔn)確地將掩模版上

的尺寸在光刻膠上曝光。這個(gè)問(wèn)題隨著Perkin Elmer的掃描投影光刻機(jī)引入而得以解決。Perkin Elmer使用掃描技術(shù)，避免r全局掩膜投影曝光產(chǎn)生的問(wèn)題。它采用了一個(gè)帶有狹縫的反射鏡系統(tǒng)，狹縫擋住了部薄膜分來(lái)自光源的光。，這個(gè)系統(tǒng)有一個(gè)新的參數(shù)需要控制：掃描速度( scan speed)。由于掩模版上的圖形尺寸與在晶圓表面想要得到的圖形尺寸相同，因此這種光刻機(jī)稱(chēng)為I:l光刻機(jī)。