設(shè)置容差參數(shù)包括確定參數(shù)變化模式，以及AD5544ARS指定容差大小兩項(xiàng)內(nèi)容。

   (1)參數(shù)變化模式的描述。對不同情況下生產(chǎn)的元器件，元器件值的分散情況可能有兩種不同的模式。

   DEV模式：又稱為獨(dú)立變化模式。如果生產(chǎn)的一批電路產(chǎn)品中，對應(yīng)電路設(shè)計(jì)中同一個(gè)元器件的值相互獨(dú)立，存在分散性，則稱為獨(dú)立變化模式。PSpice中用關(guān)鍵詞DEV代表這種變化模式。

   LOT描述：又稱為同步變化模式，適用于描述集成電路生產(chǎn)過程。PSpice中用關(guān)鍵詞LOT代表這種變化模式。

   如何設(shè)置模型參數(shù)的變化模式應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況確定。如果設(shè)計(jì)的電路要用印制電路板( PCB)裝配，則不同PCB中針對電路謾計(jì)中同一個(gè)元器件采用的元器件參數(shù)將獨(dú)立隨機(jī)變化，就只需要選用DEV。但是如果設(shè)計(jì)的電路用于集成電路生產(chǎn)，由于工藝條件的變化，同一晶片上不同管心之間的同一個(gè)元器件參數(shù)存在隨機(jī)起伏，這就需要用DEV表示。但是集成電路生產(chǎn)中，不同批次之間的元器件參數(shù)還存在起伏波動(dòng)，就還應(yīng)該用LOT表示。這就是說，對用于集成電路生產(chǎn)的電路設(shè)計(jì)進(jìn)行MC分析時(shí)，對要考慮其變化的參數(shù)，應(yīng)同時(shí)采用LOT和DEV兩種變化模式。

   (2)參數(shù)變化容差的設(shè)置。在描述參數(shù)變化規(guī)律的關(guān)鍵詞DEV和／或LOT后面，應(yīng)給出表示容差范圍的數(shù)字。若數(shù)字后跟有百分號“%”，則代表相對變化百分?jǐn)?shù)，否則僅表示變化容差的大小。

 元器件參數(shù)變化模式及變化容差的設(shè)置需要調(diào)用模型參數(shù)編輯模塊Model Editor來完成。設(shè)置方法將在4.3.3節(jié)結(jié)合差分對實(shí)例具體介紹。