根據(jù)對(duì)外延片合格產(chǎn)品的要求, JANTX2N2907A需要進(jìn)行以下測(cè)試分析:

   ①表面反射率分析(PR:Photo RcⅡcctivity),測(cè)試外延片表面的粗糙度;

   ②光致發(fā)光分析(PL:PhotolumincsccllCe),光譜分析、峰值波長(zhǎng)、波長(zhǎng)均勻性、半峰寬;

   ③Ⅺ射線分析(X-Ray),晶格質(zhì)量、組分分析、周期計(jì)算;

   ④Hall霍爾效應(yīng)測(cè)試,主要測(cè)量電阻率、遷移率、載流子濃度、霍爾系數(shù);

   ⑤電致發(fā)光測(cè)量(EL:ElectrolumillesccnCc),其分析參數(shù)包括亮度(mcd)、正向偏壓(Vf)、波長(zhǎng)(nm)、半峰寬、反向電流、波長(zhǎng)漂移、反向電壓、抗EsD能力等;

   ⑥顯微鏡測(cè)量,包括原子力顯微鏡、金相顯微鏡及掃描電鏡進(jìn)行表面形貌分析。

   表面反射率

   隨著對(duì)外延片表面質(zhì)量要求的不斷提高,表面粗糙度已經(jīng)成為合格外延片的必要條件。外延片表面粗糙度的測(cè)量利用光學(xué)原理,如圖5-16所示。當(dāng)一束光以…定的角度照射到固體表面后,除一部分光被固體吸收外,另一部分被反射和散射。反射光的強(qiáng)弱與被測(cè)表面的粗糙度有關(guān),反射光的強(qiáng)弱通過(guò)反射光強(qiáng)度與入射光強(qiáng)度的比值即表面反射率(白分比)來(lái)表示。具有光滑表面的GaN外延片,共測(cè)量的表面反射率為17%,lFl粗糙的GaN表面反射率范圍約在1%~10%。因此,依據(jù)測(cè)量的外延片表面反射率能夠有效地判斷

出其表面粗糙度。