外延材料的測(cè)試分析
發(fā)布時(shí)間:2016/11/5 19:10:07 訪問次數(shù):1297
LED發(fā)光用氮化鎵基外延片包括LED全結(jié)構(gòu)外延片,和按導(dǎo)電類型分為n型和p型兩種類型的單層氮化鎵外延片。 JANTX2N2222A氮化鎵基外延片首先需要進(jìn)行外形尺寸、外觀的檢驗(yàn),包括:
(1)外延層厚度。一般利用多光束干涉原理,在外延片的生長過程中進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測(cè)。一定波長的光從很薄的外延層的不同表面反射回來,存在光程差,會(huì)發(fā)生相長或相消干涉,可用于探測(cè)薄膜厚度,監(jiān)測(cè)外延層的生長速率。對(duì)外延層厚度的在線監(jiān)測(cè)有助于實(shí)時(shí)調(diào)整控制條件,提高外延片的成品率。
(2)徑向厚度不均勻性。要求沿定位徑向厚度不均勻性≤±3%。
(3)表面形貌。六角缺陷,細(xì)凹坑,細(xì)痕,白點(diǎn)等數(shù)量及尺寸;如¢50.8rym夕卜延片指標(biāo)為六角缺陷小于300um,每片少于⒛個(gè);細(xì)凹坑小于⒛um,每片少于100個(gè);細(xì)痕小于511nll,每片少于3個(gè);白點(diǎn)小于3mm,每片少于20個(gè)。
(4)表面粗糙度。平面外延片表面粗糙度≤0.2nm。然后對(duì)外延片的波長范圍、均勻性(要求≤8nm)和電壓進(jìn)行測(cè)量,電壓偏差很大,
波長偏長或偏短的樣品均為不合格產(chǎn)品。最后需要檢測(cè)外延片的晶體質(zhì)量,包括雙晶半寬和位錯(cuò)密度及位置分布,合格的產(chǎn)品要求位錯(cuò)密度≤1×1010個(gè)/cm2(¢50.811nll外延片)。
LED發(fā)光用氮化鎵基外延片包括LED全結(jié)構(gòu)外延片,和按導(dǎo)電類型分為n型和p型兩種類型的單層氮化鎵外延片。 JANTX2N2222A氮化鎵基外延片首先需要進(jìn)行外形尺寸、外觀的檢驗(yàn),包括:
(1)外延層厚度。一般利用多光束干涉原理,在外延片的生長過程中進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測(cè)。一定波長的光從很薄的外延層的不同表面反射回來,存在光程差,會(huì)發(fā)生相長或相消干涉,可用于探測(cè)薄膜厚度,監(jiān)測(cè)外延層的生長速率。對(duì)外延層厚度的在線監(jiān)測(cè)有助于實(shí)時(shí)調(diào)整控制條件,提高外延片的成品率。
(2)徑向厚度不均勻性。要求沿定位徑向厚度不均勻性≤±3%。
(3)表面形貌。六角缺陷,細(xì)凹坑,細(xì)痕,白點(diǎn)等數(shù)量及尺寸;如¢50.8rym夕卜延片指標(biāo)為六角缺陷小于300um,每片少于⒛個(gè);細(xì)凹坑小于⒛um,每片少于100個(gè);細(xì)痕小于511nll,每片少于3個(gè);白點(diǎn)小于3mm,每片少于20個(gè)。
(4)表面粗糙度。平面外延片表面粗糙度≤0.2nm。然后對(duì)外延片的波長范圍、均勻性(要求≤8nm)和電壓進(jìn)行測(cè)量,電壓偏差很大,
波長偏長或偏短的樣品均為不合格產(chǎn)品。最后需要檢測(cè)外延片的晶體質(zhì)量,包括雙晶半寬和位錯(cuò)密度及位置分布,合格的產(chǎn)品要求位錯(cuò)密度≤1×1010個(gè)/cm2(¢50.811nll外延片)。
熱門點(diǎn)擊
- 要保持RST腳兩個(gè)機(jī)器周期的高電平時(shí)間
- 液相線溫度等于熔點(diǎn)溫度
- 表貼式封裝
- 突變結(jié)空間電荷區(qū)中電場(chǎng)隨位置線形變化
- 量子阱結(jié)構(gòu)發(fā)光二極管
- 外層和內(nèi)層電子的能量分布與原子間距的關(guān)系
- 零點(diǎn)電壓
- 微分電路取較小的時(shí)間常數(shù)
- 灰度指畫面上亮度等級(jí)的差別
- 變壓器的鐵芯采用飽和磁通密度高
推薦技術(shù)資料
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