切片工藝
發(fā)布時間:2017/5/8 20:34:00 訪問次數(shù):3480
制備好的單晶硅錠經(jīng)切片加工得到硅片。切片工KA2206B藝流程為:切斷→滾磨→定晶向一切片→倒角→研磨→腐蝕→拋光艸清洗→檢驗(yàn)。
各工藝的具體內(nèi)容如下。
切斷:切除單晶硅錠的頭部、尾部及超規(guī)格部分,將單晶硅錠分段成切片設(shè)備可以處理的長度,應(yīng)切取試片測量單晶硅錠的電阻率和含氧量等。
切斷設(shè)備:內(nèi)圓切割機(jī)或外圓切割機(jī)。
滾磨:由于生長的單晶硅錠的外徑表面并不平整,E111彐晶向硅錠有3個棱,E100]晶向硅錠有4個棱,直徑也比最終拋光晶片所規(guī)定的直徑規(guī)格大,通過外徑滾磨可以獲得較為精確的直徑。外徑滾磨設(shè)備:磨床。
定晶向:將滾磨后的硅錠進(jìn)行平邊或V形槽處理,采用X射線衍射方法確定晶向。當(dāng)X射線被晶體衍射時,通過測量衍射線的方位即可以確定出晶體取向。直徑在150mm以下的硅錠,用磨床磨出平邊,用來標(biāo)記晶向和摻雜類型,在后面工藝中用于對準(zhǔn)晶向。硅片主要晶向和摻雜類型的定位平邊(定位面)形狀如圖~910所示。更大的硅錠是在其側(cè)面磨出一V形槽。
制備好的單晶硅錠經(jīng)切片加工得到硅片。切片工KA2206B藝流程為:切斷→滾磨→定晶向一切片→倒角→研磨→腐蝕→拋光艸清洗→檢驗(yàn)。
各工藝的具體內(nèi)容如下。
切斷:切除單晶硅錠的頭部、尾部及超規(guī)格部分,將單晶硅錠分段成切片設(shè)備可以處理的長度,應(yīng)切取試片測量單晶硅錠的電阻率和含氧量等。
切斷設(shè)備:內(nèi)圓切割機(jī)或外圓切割機(jī)。
滾磨:由于生長的單晶硅錠的外徑表面并不平整,E111彐晶向硅錠有3個棱,E100]晶向硅錠有4個棱,直徑也比最終拋光晶片所規(guī)定的直徑規(guī)格大,通過外徑滾磨可以獲得較為精確的直徑。外徑滾磨設(shè)備:磨床。
定晶向:將滾磨后的硅錠進(jìn)行平邊或V形槽處理,采用X射線衍射方法確定晶向。當(dāng)X射線被晶體衍射時,通過測量衍射線的方位即可以確定出晶體取向。直徑在150mm以下的硅錠,用磨床磨出平邊,用來標(biāo)記晶向和摻雜類型,在后面工藝中用于對準(zhǔn)晶向。硅片主要晶向和摻雜類型的定位平邊(定位面)形狀如圖~910所示。更大的硅錠是在其側(cè)面磨出一V形槽。
熱門點(diǎn)擊
- 電磁繼電器(EMR)簡稱繼電器
- 熱氧化過程中雜質(zhì)的再分布
- 切片工藝
- 對系統(tǒng)誤差特性的要求
- 鍺和硅是兩種重要的半導(dǎo)俸
- 空間環(huán)境監(jiān)測器(SEM)
- 強(qiáng)對流等災(zāi)害性天氣進(jìn)行重點(diǎn)觀測
推薦技術(shù)資料
- 羅盤誤差及補(bǔ)償
- 造成羅盤誤差的主要因素有傳感器誤差、其他磁材料干擾等。... [詳細(xì)]
- CV/CC InnoSwitch3-AQ 開
- URF1DxxM-60WR3系
- 1-6W URA24xxN-x
- 閉環(huán)磁通門信號調(diào)節(jié)芯片NSDRV401
- SK-RiSC-SOM-H27X-V1.1應(yīng)
- RISC技術(shù)8位微控制器參數(shù)設(shè)
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計(jì)
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究