在微電子工藝中不同的工藝方法要求的真空度范圍不同,通常將真空度大致劃分為四個(gè)級(jí)別。BCM5751KFBG在不同的真空度范圍,氣體分子也處于不同的運(yùn)動(dòng)狀態(tài),這對(duì)于具體的工藝過程有重要影響。

   大部分工藝設(shè)備工作在低真空或中真空度范圍。為了獲得潔凈的工藝環(huán)境,真空室在通入工藝氣體之前,通常將室內(nèi)基壓抽吸到高真空度或超高真空度范圍。如蒸鍍工藝,先將真空室的基壓抽吸達(dá)到高真空度范圍,鍍膜開始后源材料的蒸發(fā)使得真空室的真空度降至中真空度范圍;濺射工藝,真空室的基壓也多在高真空度范圍,通人工藝氣體后氣體等離子化,繼而開始濺射,此時(shí)的真空度通常在低、中真空度范圍。如表81所示為氣體真空度劃分和氣體分子的運(yùn)動(dòng)特點(diǎn)。以物理方法抽取真空室氣體提高室內(nèi)真空度的設(shè)各稱為真空泵,要獲取不同的真空度,所采用的真空設(shè)各不同。

   低、中真空的獲得通常采用機(jī)械泵。這類泵是通過活塞、葉片或柱塞的機(jī)械運(yùn)動(dòng)將氣體正向移位,其過程可以概括為3個(gè)步驟:先是捕捉一定體積的氣體,再對(duì)所捕捉的氣體進(jìn)行壓縮,最后排出氣

體。這類泵是通過壓縮氣體進(jìn)行工作的,因此叉稱為壓縮泵。壓泵氣體出口和人口的壓力比值稱為壓縮比,壓縮比是這類真空泵的重要參數(shù)。例如,如果排出氣體的壓力是1atm,壓縮比是100:1時(shí),此泵能實(shí)現(xiàn)的最低壓力是0,01atm(1kPa)。若要在氣體入口和出口之間產(chǎn)生更高的壓力差,可以用多個(gè)壓縮泵串聯(lián),即多級(jí)連接來實(shí)現(xiàn)。