分辨率是指一個光學(xué)系統(tǒng)精確區(qū)分目標(biāo)的能力。微圖形加工的最小分辨率是指光刻系統(tǒng)所能分辨和加工的最小線條尺寸或機(jī)器能充分打印出的區(qū)域。PMBT3904分辨率是決定光刻系統(tǒng)最重要的指標(biāo),能分辨的線寬越小,分辨率越高。Apelattlre,NA),一般在0.16~0.9范圍變化。

     由式(91)可知提高光刻分辨率的途徑是:減小波長^(其中,光刻加工極限值^/2,即半波長的分辨率)、增加數(shù)值孔徑(NΛ)、優(yōu)化系統(tǒng)設(shè)計(分辨率增強(qiáng)技術(shù))及減小乃1。表92為不同光源對應(yīng)的技術(shù)參數(shù),通過改變光源;波長R可從钅36nm減小到13,5nm,相應(yīng)的

分辨率也從0.5um提高到18nm。圖91所示為不同光源、不同NA條件下的曝光效果圖。圖92所示為通過改變掩模板形狀減小分辨率系數(shù)乃l的效果最多可以減小30%。

   通過采用浸入式技術(shù)也可以有效地提高NA,圖93所示為浸人式光刻的示意圖。將液體置于主鏡頭和硅片之間,人射光線白然而然地就會穿透比空氣折射率更高的液體,這種方式本身并沒有提高特定投影圖像的分辨率,但是它卻能夠賦予光刻機(jī)的鏡頭更高的數(shù)值孔徑。其中″是透鏡周圍介質(zhì)的折射系數(shù),α是透鏡的半接角。傳統(tǒng)的“干法”光刻系統(tǒng)中,介質(zhì)是折射系數(shù)為1的空氣,則NA的理論最大值為1。采用具有更高折射系數(shù)的液體,浸人技術(shù)有可能使系統(tǒng)的NA>1。比如使用折射率為1.狃的去離子水后,NA的理論最大值即為1,狃。在193nm曝光系統(tǒng)中。如果液體不是水而是其他液體,且折射率比1.±+高時,則實際分辨率可以非常方便地再次提高,這也是浸人式光刻技術(shù)能很快普及的原因。