分析測(cè)量電阻率誤差的來(lái)源
發(fā)布時(shí)間:2017/6/3 22:44:30 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):2755
(l)分析測(cè)量電阻率誤差的來(lái)源。
(2)如果只用兩根探針既作為電流探針又作為電壓探針,這樣能否對(duì)樣品進(jìn)行較為準(zhǔn)確的壩量?為什么? TA7658AP
硅片清洗
在微電子器件芯片生產(chǎn)中,幾乎每道工序(指單項(xiàng)工藝)之前都要先進(jìn)行清洗,清洗好壞對(duì)器件性能影響很大,處理不當(dāng),可導(dǎo)致器件性能低劣,穩(wěn)定性和可靠性差,甚至全部報(bào)廢。因此,清洗工序是
很重要的工藝步驟。一次氧化前的清洗是硅片的初次清洗,先分析硅片前期加工特點(diǎn)和運(yùn)輸時(shí)可能引人的有機(jī)、無(wú)機(jī)污染物。如硅片表面可能有封蠟、有機(jī)磨料、氧化物磨料、灰塵等。因此,一次清洗應(yīng)去除表面封蠟等油脂和磨料等無(wú)機(jī)物雜質(zhì)。
(l)分析測(cè)量電阻率誤差的來(lái)源。
(2)如果只用兩根探針既作為電流探針又作為電壓探針,這樣能否對(duì)樣品進(jìn)行較為準(zhǔn)確的壩量?為什么? TA7658AP
硅片清洗
在微電子器件芯片生產(chǎn)中,幾乎每道工序(指單項(xiàng)工藝)之前都要先進(jìn)行清洗,清洗好壞對(duì)器件性能影響很大,處理不當(dāng),可導(dǎo)致器件性能低劣,穩(wěn)定性和可靠性差,甚至全部報(bào)廢。因此,清洗工序是
很重要的工藝步驟。一次氧化前的清洗是硅片的初次清洗,先分析硅片前期加工特點(diǎn)和運(yùn)輸時(shí)可能引人的有機(jī)、無(wú)機(jī)污染物。如硅片表面可能有封蠟、有機(jī)磨料、氧化物磨料、灰塵等。因此,一次清洗應(yīng)去除表面封蠟等油脂和磨料等無(wú)機(jī)物雜質(zhì)。
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