散光示意圖
發(fā)布時(shí)間:2017/10/30 21:23:25 訪問(wèn)次數(shù):1646
15nm(X和Y方向的焦距差)以下的散光最低階的是z2(X方向)、乙(Y方向)的非線性項(xiàng)(至少為2階)。這種像差的存在會(huì)影響到整塊曝光區(qū)域的共對(duì)焦深度(Depth ofocus,D()F),從而影響曝光區(qū)域內(nèi)的線寬均勻性。UA7808C
像差的測(cè)量可以通過(guò)很多方法,比如阿斯麥公司的硅片平臺(tái)上的白帶干涉儀(Ilias傳感器),其原理就是通過(guò)在掩膜版對(duì)應(yīng)曝光狹縫不同位置的地方設(shè)計(jì)小孔,這些小孔發(fā)出的球面波會(huì)在鏡頭的光瞳位置形成有不同傾角的平面波。如果鏡頭沒(méi)有像差,那么這些平面波的相位分布是均勻的。然后再在硅片平臺(tái)上還原為點(diǎn)狀的像。Ilias傳感器的探測(cè)器平面選在光瞳平面的共軛面上。為r探測(cè)相位,在此探測(cè)器中使用了錯(cuò)位干涉儀(latcralshcaring interferomcnter,義叫做剪切千涉儀)來(lái)探測(cè)在光瞳位置的相位非均勻性。另外,也可以通過(guò)使分析硅片曝光結(jié)果來(lái)推算出像差的情況,如約瑟夫・柯克(Joc Kirk)的工作3F Ⅱ`圖7.79中使用的方法勹柯克的方法在原理L是一樣的。
15nm(X和Y方向的焦距差)以下的散光最低階的是z2(X方向)、乙(Y方向)的非線性項(xiàng)(至少為2階)。這種像差的存在會(huì)影響到整塊曝光區(qū)域的共對(duì)焦深度(Depth ofocus,D()F),從而影響曝光區(qū)域內(nèi)的線寬均勻性。UA7808C
像差的測(cè)量可以通過(guò)很多方法,比如阿斯麥公司的硅片平臺(tái)上的白帶干涉儀(Ilias傳感器),其原理就是通過(guò)在掩膜版對(duì)應(yīng)曝光狹縫不同位置的地方設(shè)計(jì)小孔,這些小孔發(fā)出的球面波會(huì)在鏡頭的光瞳位置形成有不同傾角的平面波。如果鏡頭沒(méi)有像差,那么這些平面波的相位分布是均勻的。然后再在硅片平臺(tái)上還原為點(diǎn)狀的像。Ilias傳感器的探測(cè)器平面選在光瞳平面的共軛面上。為r探測(cè)相位,在此探測(cè)器中使用了錯(cuò)位干涉儀(latcralshcaring interferomcnter,義叫做剪切千涉儀)來(lái)探測(cè)在光瞳位置的相位非均勻性。另外,也可以通過(guò)使分析硅片曝光結(jié)果來(lái)推算出像差的情況,如約瑟夫・柯克(Joc Kirk)的工作3F Ⅱ`圖7.79中使用的方法勹柯克的方法在原理L是一樣的。
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