金氧半場效晶體管器件功率模塊
發(fā)布時間:2020/10/17 23:55:30 訪問次數(shù):2024
技術層面,SiC襯底和外延方面,國內仍然是4英寸為主,已開發(fā)出6英寸產品并實現(xiàn)小批量供貨;國內批量生產的GaN襯底仍以2英寸為主。
國內600 ~3300V SiC肖特基二極管技術較為成熟,產業(yè)化程度繼續(xù)提升,目前也已研制出1200~1700V SiC金氧半場效晶體管(MOSFET)器件,但可靠性較低,目前處于小批量生產階段;
國內全SiC功率模塊,主要指標為1200V /50~600A、650V /900A。GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)方面,國內2018年推出了650V/10 ~30A的GaN晶體管產品;GaN微波射頻器件方面,國產GaN射頻放大器已成功應用于基站,Sub 6 GHz和毫米波GaN射頻功率放大器也已實現(xiàn)量產。
產業(yè)方面,在半導體對外投資受阻情況下,國內自主創(chuàng)新發(fā)展是必由之路。
制造商: Infineon
產品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術: Si
安裝風格: Through Hole
封裝 / 箱體: TO-220-3
晶體管極性: N-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 700 V
Id-連續(xù)漏極電流: 12.5 A
Rds On-漏源導通電阻: 300 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 16 V, + 16 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 2.5 V
Qg-柵極電荷: 16.4 nC
最小工作溫度: - 40 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 26.5 W
通道模式: Enhancement
商標名: CoolMOS
封裝: Tube
配置: Single
高度: 16.15 mm
長度: 10.65 mm
系列: CoolMOS P7
晶體管類型: 1 N-Channel
寬度: 4.85 mm
商標: Infineon Technologies
下降時間: 18 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 8 ns
工廠包裝數(shù)量: 500
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 100 ns
典型接通延遲時間: 19 ns
零件號別名: IPA70R360P7S SP001499698
單位重量: 1 g

2018年,在政策和資金的雙重支持下,國內第3代半導體領域新增3條SiC產線。投資方面GaN熱度更高,據(jù)第3代半導體產業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟( CASA )不完全統(tǒng)計,2018年國內第3代半導體相關領域共有8起大的投資擴產項目,其中4起與GaN材料相關,涉及金額220億元。
與國際企業(yè)并購熱潮對比,國內2018年僅有2起。
生產模式上,大陸在第3代半導體電力電子器件領域形成了從襯底到模組完整的產業(yè)鏈體系,器件制造方面以IDM模式為主,且正在形成“設計—制造—封測”的分工體系;大陸代工產線總體尚在建設中,尚未形成穩(wěn)定批量生產。
(素材來源:chinaaet和ttic和cntronics.如涉版權請聯(lián)系刪除。特別感謝)
技術層面,SiC襯底和外延方面,國內仍然是4英寸為主,已開發(fā)出6英寸產品并實現(xiàn)小批量供貨;國內批量生產的GaN襯底仍以2英寸為主。
國內600 ~3300V SiC肖特基二極管技術較為成熟,產業(yè)化程度繼續(xù)提升,目前也已研制出1200~1700V SiC金氧半場效晶體管(MOSFET)器件,但可靠性較低,目前處于小批量生產階段;
國內全SiC功率模塊,主要指標為1200V /50~600A、650V /900A。GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)方面,國內2018年推出了650V/10 ~30A的GaN晶體管產品;GaN微波射頻器件方面,國產GaN射頻放大器已成功應用于基站,Sub 6 GHz和毫米波GaN射頻功率放大器也已實現(xiàn)量產。
產業(yè)方面,在半導體對外投資受阻情況下,國內自主創(chuàng)新發(fā)展是必由之路。
制造商: Infineon
產品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術: Si
安裝風格: Through Hole
封裝 / 箱體: TO-220-3
晶體管極性: N-Channel
通道數(shù)量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 700 V
Id-連續(xù)漏極電流: 12.5 A
Rds On-漏源導通電阻: 300 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 16 V, + 16 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 2.5 V
Qg-柵極電荷: 16.4 nC
最小工作溫度: - 40 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 26.5 W
通道模式: Enhancement
商標名: CoolMOS
封裝: Tube
配置: Single
高度: 16.15 mm
長度: 10.65 mm
系列: CoolMOS P7
晶體管類型: 1 N-Channel
寬度: 4.85 mm
商標: Infineon Technologies
下降時間: 18 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 8 ns
工廠包裝數(shù)量: 500
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 100 ns
典型接通延遲時間: 19 ns
零件號別名: IPA70R360P7S SP001499698
單位重量: 1 g

2018年,在政策和資金的雙重支持下,國內第3代半導體領域新增3條SiC產線。投資方面GaN熱度更高,據(jù)第3代半導體產業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟( CASA )不完全統(tǒng)計,2018年國內第3代半導體相關領域共有8起大的投資擴產項目,其中4起與GaN材料相關,涉及金額220億元。
與國際企業(yè)并購熱潮對比,國內2018年僅有2起。
生產模式上,大陸在第3代半導體電力電子器件領域形成了從襯底到模組完整的產業(yè)鏈體系,器件制造方面以IDM模式為主,且正在形成“設計—制造—封測”的分工體系;大陸代工產線總體尚在建設中,尚未形成穩(wěn)定批量生產。
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