MEMS工藝源自光刻微電子工藝，所以人們很自然會(huì)考慮用IC設(shè)計(jì)工具來創(chuàng)建MEMS器件的掩膜。IC設(shè)計(jì)與MEMS設(shè)計(jì)之間存在著根本的區(qū)別，從版圖特性、驗(yàn)證或仿真類型，到最重要的構(gòu)造問題。

對(duì)象尺寸在數(shù)量級(jí)上的差異會(huì)導(dǎo)致一個(gè)常犯的錯(cuò)誤。兩個(gè)對(duì)象在顯示屏上看起來可能是連接在一起的，但實(shí)際上它們可能是由柵格點(diǎn)隔開的。這種錯(cuò)誤若在出帶時(shí)沒有發(fā)現(xiàn)，將會(huì)造成慘重?fù)p失。能夠處理曲線和多邊形的DRC則可以避免這些錯(cuò)誤。

當(dāng)MEMS設(shè)計(jì)包含大量的曲線對(duì)象(curved object)時(shí)，使用IC CAD工具會(huì)引發(fā)一些有趣的問題。

像電磁激勵(lì)器這樣的器件需要能繪制精確曲線的版圖工具。管理這類數(shù)據(jù)可能會(huì)降低繪圖操作的速度。處理曲線和多邊形需要合適的繪圖指令以及精確的幾何定位工具，以準(zhǔn)確捕捉中點(diǎn)、半徑和角。

在電氣工程領(lǐng)域，MEMS技術(shù)已被分為四個(gè)產(chǎn)品類別：

音訊：在音頻領(lǐng)域，我們有MEMS麥克風(fēng)和MEMS揚(yáng)聲器。下圖傳達(dá)了MEMS麥克風(fēng)的基本特性。

感測(cè)器：傳感器是MEMS技術(shù)的主要應(yīng)用。有MEMS陀螺儀，傾角儀，加速度計(jì)，流量傳感器，氣體傳感器，壓力傳感器和磁場(chǎng)傳感器。

開關(guān)：在我看來，電控開關(guān)是MEMS技術(shù)特別有趣的應(yīng)用。我在本文中介紹過的ADGM1004易于控制，可在0Hz至10GHz以上的信號(hào)頻率下工作，在關(guān)斷狀態(tài)下的泄漏電流小于1nA，提供的驅(qū)動(dòng)壽命至少為一個(gè)十億個(gè)周期。

震蕩器：將微機(jī)械諧振器與激勵(lì)電路和維持電路相結(jié)合會(huì)產(chǎn)生MEMS振蕩器。如果您想研究實(shí)際的MEMS組件，SiTime的SiT2024BMEMS振蕩器。

與制造緊密聯(lián)系的是工藝特征和工件(arTIfact)。設(shè)計(jì)師可以直接在CAD工具中對(duì)它們做一些修正補(bǔ)償。MEMS是在版圖設(shè)計(jì)階段預(yù)備掩膜數(shù)據(jù)的。在L-Edit版圖編輯器里，所有關(guān)于復(fù)雜多邊形(如弧、園及類似圖形)的運(yùn)算都能在一個(gè)簡(jiǎn)單的步驟中完成。在一些CAD工具中，這避免了很耗時(shí)的對(duì)各個(gè)對(duì)象逐一拷貝、粘貼和縮放的操作。

MEMS設(shè)計(jì)師應(yīng)特別注意那些大型的多邊形，因?yàn)樵跒榱藵M足GDSII要求對(duì)曲線對(duì)象進(jìn)行多邊形化時(shí)，最終產(chǎn)生的多邊形往往具有大量的點(diǎn)。掩膜公司一般只允許一個(gè)多邊形有200個(gè)點(diǎn)。L-Edit能檢測(cè)這些多邊形，并在GDSII 輸出流上自動(dòng)把它們分解成更小的多邊形。

MEMS工藝往往是其專有的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，而且在材料選擇、層次順序等方面是獨(dú)特的。實(shí)際上，現(xiàn)在只有很少的標(biāo)準(zhǔn)工藝。這使得版圖驗(yàn)證很困難，而那些初創(chuàng)的MEMS公司又很少有能力進(jìn)行自動(dòng)化的版圖與原理圖對(duì)比(LVS)檢查。

(素材來源：eepw.如涉版權(quán)請(qǐng)聯(lián)系刪除。特別感謝）