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在新光罩質(zhì)量控制和芯片生產(chǎn)過程中光罩合格性重新檢定方面

發(fā)布時間:2023/8/3 22:54:08 訪問次數(shù):103

顯示器為實現(xiàn)更鮮明的畫質(zhì),改變了大尺寸有機發(fā)光二極體(OLED)面板生產(chǎn)制程使用的白光OLED(WOLED)有機材料發(fā)光層結(jié)構(gòu)。制程難度雖然提升,但并未增加生產(chǎn)制程時間和成本。

大尺寸OLED面板,將不使用混合紅色(R)、綠色(G)的黃色(Y)材料,改用垂直堆疊R、G、藍色(B)的方式。顯示器先使用黃、綠、藍光材料,形成白光后,再于其上鋪設(shè)彩色濾光片,以實現(xiàn)各種色彩。

黃色材料是由紅色與綠色混合而成,是除R、G、B之外,為實現(xiàn)天然色彩而使用的發(fā)光材料。顯示器采用的是形成藍色層和黃色層垂直堆疊的“2 Stack”結(jié)構(gòu)。

Teron光罩檢測平臺之上,通過采用193納米光源和雙成像模式,Teron  640支持先進的光學(xué)光罩檢測。

此外,Teron 640還增強了先進的芯片-數(shù)據(jù)庫檢測算法,以進一步提高缺陷靈敏度,并提供新的更高產(chǎn)能選項,以縮短獲取結(jié)果的時間。多套Teron 640光罩檢測系統(tǒng)已經(jīng)安裝在晶圓代工廠和邏輯電路工廠中,用于高性能光罩的質(zhì)量控制。

Teron SL655的核心技術(shù)STARlightGOLD能夠在新光罩質(zhì)量檢查時從光罩生成黃金參考,然后使用此參考進行光罩合格性的重新檢測。

這種獨特的技術(shù)實現(xiàn)了全域光罩覆蓋,并且創(chuàng)造出最佳的缺陷檢測率,例如霧點生長或污染,籍此支持包括采用高度復(fù)雜的光學(xué)鄰近技術(shù)在內(nèi)的各種光罩類型。Teron SL655擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能,支持更快的生產(chǎn)周期和檢測更多數(shù)量的光罩,滿足先進的多圖案技術(shù)光罩技術(shù)。

此外,Teron SL655與超紫外線 檢測技術(shù)兼容,能夠與集成電路制造商及早協(xié)作,滿足晶圓廠對EUV光罩的要求。在新光罩質(zhì)量控制和芯片生產(chǎn)過程中的光罩合格性重新檢定方面,Teron SL655系統(tǒng)正在接受集成電路制造商的評估。

隔板輔助四層成像,采用越來越復(fù)雜的光罩,這使得檢驗光罩質(zhì)量并保持光罩狀況對實現(xiàn)最佳的晶圓圖案成像至關(guān)重要。

深圳市慈安科技有限公司http://cakj.51dzw.com

顯示器為實現(xiàn)更鮮明的畫質(zhì),改變了大尺寸有機發(fā)光二極體(OLED)面板生產(chǎn)制程使用的白光OLED(WOLED)有機材料發(fā)光層結(jié)構(gòu)。制程難度雖然提升,但并未增加生產(chǎn)制程時間和成本。

大尺寸OLED面板,將不使用混合紅色(R)、綠色(G)的黃色(Y)材料,改用垂直堆疊R、G、藍色(B)的方式。顯示器先使用黃、綠、藍光材料,形成白光后,再于其上鋪設(shè)彩色濾光片,以實現(xiàn)各種色彩。

黃色材料是由紅色與綠色混合而成,是除R、G、B之外,為實現(xiàn)天然色彩而使用的發(fā)光材料。顯示器采用的是形成藍色層和黃色層垂直堆疊的“2 Stack”結(jié)構(gòu)。

Teron光罩檢測平臺之上,通過采用193納米光源和雙成像模式,Teron  640支持先進的光學(xué)光罩檢測。

此外,Teron 640還增強了先進的芯片-數(shù)據(jù)庫檢測算法,以進一步提高缺陷靈敏度,并提供新的更高產(chǎn)能選項,以縮短獲取結(jié)果的時間。多套Teron 640光罩檢測系統(tǒng)已經(jīng)安裝在晶圓代工廠和邏輯電路工廠中,用于高性能光罩的質(zhì)量控制。

Teron SL655的核心技術(shù)STARlightGOLD能夠在新光罩質(zhì)量檢查時從光罩生成黃金參考,然后使用此參考進行光罩合格性的重新檢測。

這種獨特的技術(shù)實現(xiàn)了全域光罩覆蓋,并且創(chuàng)造出最佳的缺陷檢測率,例如霧點生長或污染,籍此支持包括采用高度復(fù)雜的光學(xué)鄰近技術(shù)在內(nèi)的各種光罩類型。Teron SL655擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能,支持更快的生產(chǎn)周期和檢測更多數(shù)量的光罩,滿足先進的多圖案技術(shù)光罩技術(shù)。

此外,Teron SL655與超紫外線 檢測技術(shù)兼容,能夠與集成電路制造商及早協(xié)作,滿足晶圓廠對EUV光罩的要求。在新光罩質(zhì)量控制和芯片生產(chǎn)過程中的光罩合格性重新檢定方面,Teron SL655系統(tǒng)正在接受集成電路制造商的評估。

隔板輔助四層成像,采用越來越復(fù)雜的光罩,這使得檢驗光罩質(zhì)量并保持光罩狀況對實現(xiàn)最佳的晶圓圖案成像至關(guān)重要。

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