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多級(jí)噪聲濾波算法權(quán)利實(shí)現(xiàn)可靠性和更敏感觸摸性能通過(guò)一個(gè)手套操作

發(fā)布時(shí)間:2024/2/17 10:21:39 訪問(wèn)次數(shù):34

MTCH102-5-8電容式觸摸控制器,在硬件配置只有這些二,五,八聲道控制器更換一個(gè)簡(jiǎn)單的數(shù)字輸出的機(jī)械按鍵。

多級(jí)噪聲濾波算法權(quán)利,以實(shí)現(xiàn)高的可靠性和更敏感觸摸性能,包括通過(guò)一個(gè)手套操作。

該MTCH102 mTouch傳感,低功耗,雙通道電容式觸摸控制器目前已上市的MSOP封裝或UDFN封裝,MTCH105低功耗,五通道電容式觸摸控制器是采用QFN或TSSOP封裝,以及MTCH108低電力,八通道電容式觸摸控制器。

五款圖案成型控制系統(tǒng),以幫助芯片制造商實(shí)現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV光刻所需的嚴(yán)格工藝寬容度。

在IC制造廠內(nèi),ATL™疊對(duì)量測(cè)系統(tǒng)和SpectraFilm™ F1薄膜量測(cè)系統(tǒng)可以針對(duì)finFET、DRAM、3D NAND和其他復(fù)雜器件結(jié)構(gòu)的制造提供工藝表征分析和偏移監(jiān)控。Teron™ 640e光罩檢測(cè)產(chǎn)品系列和LMS IPRO7光罩疊對(duì)位準(zhǔn)量測(cè)系統(tǒng)可以協(xié)助掩模廠開(kāi)發(fā)和認(rèn)證EUV和先進(jìn)的光學(xué)光罩。

ATL疊對(duì)量測(cè)系統(tǒng)采用獨(dú)特的可調(diào)激光技術(shù),具有1納米波長(zhǎng)分辨率,在工藝發(fā)生變化的情況下仍然可以自動(dòng)保持穩(wěn)定的高精度疊對(duì)誤差測(cè)量,從而支持快速的技術(shù)提升以及生產(chǎn)過(guò)程中精確的晶圓處置。

通過(guò)自由提取全制造廠范圍的量測(cè)和監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù),IC工程師可以快速地確定并在發(fā)生工藝問(wèn)題的地方直接控制。五款系統(tǒng)將為客戶提供我們最尖端的技術(shù),讓他們的專家能夠降低由每個(gè)晶片、光罩和工藝步驟所導(dǎo)致的圖案成型誤差。

通過(guò)升級(jí)和新設(shè)備安裝,Teron 640e和LMS IPRO7進(jìn)一步增加了KLA-Tencor在尖端掩模廠中眾多的光罩檢測(cè)和量測(cè)系統(tǒng)的安裝數(shù)量。為了保持IC制造所需要的高性能和高產(chǎn)量,ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7和5D Analyzer X1均由KLA-Tencor的全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò)提供支持。


MTCH102-5-8電容式觸摸控制器,在硬件配置只有這些二,五,八聲道控制器更換一個(gè)簡(jiǎn)單的數(shù)字輸出的機(jī)械按鍵。

多級(jí)噪聲濾波算法權(quán)利,以實(shí)現(xiàn)高的可靠性和更敏感觸摸性能,包括通過(guò)一個(gè)手套操作。

該MTCH102 mTouch傳感,低功耗,雙通道電容式觸摸控制器目前已上市的MSOP封裝或UDFN封裝,MTCH105低功耗,五通道電容式觸摸控制器是采用QFN或TSSOP封裝,以及MTCH108低電力,八通道電容式觸摸控制器。

五款圖案成型控制系統(tǒng),以幫助芯片制造商實(shí)現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV光刻所需的嚴(yán)格工藝寬容度。

在IC制造廠內(nèi),ATL™疊對(duì)量測(cè)系統(tǒng)和SpectraFilm™ F1薄膜量測(cè)系統(tǒng)可以針對(duì)finFET、DRAM、3D NAND和其他復(fù)雜器件結(jié)構(gòu)的制造提供工藝表征分析和偏移監(jiān)控。Teron™ 640e光罩檢測(cè)產(chǎn)品系列和LMS IPRO7光罩疊對(duì)位準(zhǔn)量測(cè)系統(tǒng)可以協(xié)助掩模廠開(kāi)發(fā)和認(rèn)證EUV和先進(jìn)的光學(xué)光罩。

ATL疊對(duì)量測(cè)系統(tǒng)采用獨(dú)特的可調(diào)激光技術(shù),具有1納米波長(zhǎng)分辨率,在工藝發(fā)生變化的情況下仍然可以自動(dòng)保持穩(wěn)定的高精度疊對(duì)誤差測(cè)量,從而支持快速的技術(shù)提升以及生產(chǎn)過(guò)程中精確的晶圓處置。

通過(guò)自由提取全制造廠范圍的量測(cè)和監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù),IC工程師可以快速地確定并在發(fā)生工藝問(wèn)題的地方直接控制。五款系統(tǒng)將為客戶提供我們最尖端的技術(shù),讓他們的專家能夠降低由每個(gè)晶片、光罩和工藝步驟所導(dǎo)致的圖案成型誤差。

通過(guò)升級(jí)和新設(shè)備安裝,Teron 640e和LMS IPRO7進(jìn)一步增加了KLA-Tencor在尖端掩模廠中眾多的光罩檢測(cè)和量測(cè)系統(tǒng)的安裝數(shù)量。為了保持IC制造所需要的高性能和高產(chǎn)量,ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7和5D Analyzer X1均由KLA-Tencor的全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò)提供支持。


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