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聯(lián)電65nm芯片工藝采用SOI技術

發(fā)布時間:2008/6/5 0:00:00 訪問次數(shù):461

  除了ibm、amd在芯片工藝上采用soi(絕緣體上硅)技術之外,現(xiàn)在臺灣第2大芯片代工廠商umc聯(lián)電也宣布在旗下的65nm芯片生產(chǎn)線上開始采用soi技術。

  絕緣體上硅(soi)是指在一絕緣襯底上再形成一層單晶硅薄膜,或者是單晶硅薄膜被一絕緣層(通常是sio2)從支撐的硅襯底中分開這樣結構的材料、這種材料結構可實現(xiàn)制造器件的薄膜材料完全與襯底材料的隔離。soi技術可以改善芯片性能,降低漏電,以及減少芯片功耗。隨著微處理器(cpu)、圖形芯片(gpu)制程對絕緣層上覆硅技術(soi)需求愈來愈強,soi已成各大芯片代工角逐核心客戶青睞的武器。

  聯(lián)電表示,借助soi技術,旗下65nm工藝晶圓更加緊湊,芯片切割率可以比無soi技術的65nm晶圓提升25%,同時聯(lián)電65nmsoi技術的芯片功耗可以降低30%,聯(lián)電65nmsoi技術的芯片工作頻率可以最大提升28%,聯(lián)電65nmsoi技術的芯片的生產(chǎn)成本可以降低10%。

  聯(lián)電目前也是除tmsc臺積電之外,全球第2大芯片代工廠商。

  除了ibm、amd在芯片工藝上采用soi(絕緣體上硅)技術之外,現(xiàn)在臺灣第2大芯片代工廠商umc聯(lián)電也宣布在旗下的65nm芯片生產(chǎn)線上開始采用soi技術。

  絕緣體上硅(soi)是指在一絕緣襯底上再形成一層單晶硅薄膜,或者是單晶硅薄膜被一絕緣層(通常是sio2)從支撐的硅襯底中分開這樣結構的材料、這種材料結構可實現(xiàn)制造器件的薄膜材料完全與襯底材料的隔離。soi技術可以改善芯片性能,降低漏電,以及減少芯片功耗。隨著微處理器(cpu)、圖形芯片(gpu)制程對絕緣層上覆硅技術(soi)需求愈來愈強,soi已成各大芯片代工角逐核心客戶青睞的武器。

  聯(lián)電表示,借助soi技術,旗下65nm工藝晶圓更加緊湊,芯片切割率可以比無soi技術的65nm晶圓提升25%,同時聯(lián)電65nmsoi技術的芯片功耗可以降低30%,聯(lián)電65nmsoi技術的芯片工作頻率可以最大提升28%,聯(lián)電65nmsoi技術的芯片的生產(chǎn)成本可以降低10%。

  聯(lián)電目前也是除tmsc臺積電之外,全球第2大芯片代工廠商。

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