羅門哈斯電子材料公司（rohm and haas electronic materials）旗下的研磨技術(shù)事業(yè)部（cmp technologies）面向高級cu/low-k材料互連應(yīng)用產(chǎn)品推出了acuplane?銅阻擋層cmp解決方案。acuplane系統(tǒng)將羅門哈斯的ecovision? 4000化學(xué)機械研磨墊和acuplane 5000系列研磨液結(jié)合起來，組成一個可調(diào)節(jié)的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，以滿足高級工藝節(jié)點的嚴格要求。

　　acuplane系統(tǒng)通過優(yōu)化研磨墊和研磨液的組合性能，使缺陷率降低了一個數(shù)量級，同時還賦予客戶更大的控制力，幫助客戶最大限度減少金屬和電介質(zhì)的損耗。此外，acuplane系統(tǒng)能夠顯著改善研磨后整個晶圓表面的形貌，并能降低晶圓上的應(yīng)力以避免多孔的超低介電常數(shù)（ultra low-k）材質(zhì)薄膜表面出現(xiàn)凹陷、腐蝕和脫層現(xiàn)象。

　　羅門哈斯電子材料公司首席技術(shù)官cathie markham說，“acuplane系統(tǒng)提供的化學(xué)特性能根據(jù)具體的客戶工藝需求進行調(diào)整。該系統(tǒng)還能直接滿足客戶需求，幫助客戶延長研磨墊的使用壽命，為客戶提供穩(wěn)定一

　　致的性能。我們的客戶最高曾在32納米技術(shù)節(jié)點水平應(yīng)用這套系統(tǒng)，取得了令人滿意的結(jié)果�！�

　　ecovision 4000研磨墊的創(chuàng)新設(shè)計擴大了與晶圓表面的接觸點面積，這可直接降低下層膜系上承受的應(yīng)力。這樣一來，就能最大限度消除整個晶圓上的刮痕、顫動擦痕以及薄膜脫層現(xiàn)象，從而減少缺陷，提高晶片產(chǎn)量。acuplane 5000系列研磨液是為了讓用戶能夠靈活操作，控制研磨移除率和提供更多選擇性，以應(yīng)對具體的工藝需求。無選擇或有選擇的方式均可采用這種研磨液，來保持或矯正即將形成的表面形貌，從而在阻擋層cmp工藝之后獲得出色的表面形貌性能。

　　客戶經(jīng)過測試發(fā)現(xiàn)，使用該產(chǎn)品，研磨墊的使用壽命可達到平均水平的兩到三倍，而且具有實現(xiàn)更高通量的明顯潛力。markham最后說，“這些結(jié)果證明，acuplane系統(tǒng)解決方案將顯著降低銅阻擋層cmp的成本�！�

　　acuplane銅阻擋層cmp系統(tǒng)由研磨墊-研磨液-研磨墊調(diào)節(jié)器解決方案構(gòu)成，現(xiàn)已批量上市。該系統(tǒng)現(xiàn)已在全球多家300mm晶圓工藝級的工廠投入大批量生產(chǎn)（hvm）、測試和鑒定試驗。

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