掩模版／放大掩模版制作依據(jù)最初的曝光方法（圖形產(chǎn)生、激光、電子束）和最后的結(jié)果（放大掩模版或掩模版）有許多不同的方法（見圖9. 28）。EL2041CSZ流程圖A說明了使用圖形發(fā)生器的方法制作掩模版的工藝，這是一種較老的技術(shù)方法。圖形發(fā)生器由一個光源和一系列電機驅(qū)動的快f]組成。帶有光刻膠的鍍鉻掩模版／放大掩模版在光源下隨著快門的打開而移動，來使光形成的精確圖形照射到光刻膠上產(chǎn)生預期的圖形。放大掩模版圖形以一種步進一重復的工藝被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的空白掩模版來形成一個母版。母版用來在一個接觸復印機上制作多重工作掩模版。這種設(shè)備將母版與涂有光刻膠的空白掩模版接觸并有一個用于圖形復制的紫外( UV)光源．，每個曝光步驟完成后（圖形產(chǎn)生、激光、電子束、母版曝光和接觸復�。�，放大掩模版／掩模版通過顯影、目檢、刻蝕、去光刻膠和目檢最終把圖形永久地復制到鍍鉻層上。，目檢t分關(guān)鍵，因為任何未探測到的錯誤和缺陷將會潛在地造成數(shù)千個晶圓報廢。這種用途的放大掩模版一般是茌光刻掩模版上的最終鍍鉻的5—20倍30。